Alberto SACCHETTI. Institute of Nanotechnology CNR-NANOTEC w/o Dept. of Chemistry, University of Bari Via Orabona, Bari

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1 C U R R I C U L U M V I T A E F O R M A T O E U R O P E O / E U R O P E A N F O R M A T INFORMAZIONI PERSONALI/ PERSONAL INFORMATION Nome, Cognome/Name, Surname Indirizzo/Address Via, numero civico, c.a.p., città, nazione/ House number, street name, postcode, city, country Alberto SACCHETTI Telefono/Telephone Sito web/website Nazionalità/Nationality Luogo e data di nascita/ Place and Date of birth Institute of Nanotechnology CNR-NANOTEC w/o Dept. of Chemistry, University of Bari Via Orabona, Bari Fax alberto.sacchetti@nanotec.cnr.it alberto.sacchetti@cnr.it Italy ESPERIENZA PROFESSIONALE/ WORK EXPERIENCE Se dipendente CNR indicare/ If dependent CNR indicate In ordine di data /Dates (from to) Nome e indirizzo del datore di lavoro Tipo o settore di attività / Type of Principali mansion e responsabilità / In ordine di data /Dates (from to) Nome e indirizzo del datore di lavoro Tipo o settore di attività / Type of Principali mansion e responsabilità / N. MATRICOLA 8935 QUALIFICATION TECHNICIAN CNR LEVEL V 2015-Present CNR-Institute of Nanotechnology, Bari, Italy Material Scientist Technician - level V Materials growth, development of synthesis processes; Plasma Deposition of Silicon-based materials; Graphene CVD growth, processing, functionalization and characterization ( April) CNR-Institute of Inorganic Methodologies and of Plasmas, Bari, Italy Material Scientist Technician - level V Materials growth, development of synthesis processes; Plasma Deposition of Silicon-based materials; Graphene CVD growth, processing, functionalization and characterization Page 1 - Curriculum vitae

2 In ordine di data /Dates (from to) Nome e indirizzo del datore di lavoro CNR-Institute of Inorganic Methodologies and of Plasmas, Bari, Italy Tipo o settore di attività / Type of Plasmachemistry Technician - level VI Principali mansion e responsabilità / Materials growth, development of synthesis processes; Plasma Deposition of Silicon-based materials. In ordine di data /Dates (from to) Nome e indirizzo del datore di lavoro PA.S.T.I.S.-C.N.R.S.M. S.C.p.A. S.S.7 Appia Brindisi Tipo o settore di attività / Type of Microstructural characterization of materials Laboratory Technician VI functional level of the CCNL metalworker Principali mansion e responsabilità / Microstructural and microanalytical characterization of materials by XRD In ordine di data /Dates (from to) Nome e indirizzo del datore di lavoro PA.S.T.I.S.-C.N.R.S.M. S.C.p.A. S.S.7 Appia Brindisi Tipo o settore di attività / Type of Microstructural characterization of materials Laboratory technician Principali mansion e responsabilità / Microstructural and microanalytical characterization of materials by XRD In ordine di data /Dates (from to) Nome e indirizzo del datore di lavoro C.N.R.S.M. S.p.A. S.S.7 Appia Brindisi Tipo o settore di attività / Type of Microstructural characterization of materials Laboratory technician. Principali mansion e responsabilità / Microstructural and microanalytical characterization of materials by XRD ISTRUZIONE E FORMAZIONE / EDUCATION AND TRAINING In ordine di data /Dates (from to) October 2012 Nome e tipo d istituto di istruzione o Science Department of the Environment and Territory and earth sciences at the University of Milano-Bicocca Principali materie e competenze Training School: Application of Raman Spectroscopy to Earth Sciences In ordine di data /Dates (from to) November 2006 Nome e tipo d istituto di istruzione o Horiba Jobin Yvon Page 2 - Curriculum vitae

3 Principali materie e competenze Certificato o diploma ottenuto /Title of Training school: Phase-modulated elipsometer Certificate of Attendance In ordine di data /Dates (from to) October June 2004 Nome e tipo d istituto di istruzione o Britannia College di Putignano (BA) Principali materie e competenze English course In ordine di data /Dates (from to) 2002 Nome e tipo d istituto di istruzione o Department of Physics, University of Lecce Principali materie e competenze 3rd school of Vacuum Physics and Technology In ordine di data /Dates (from to) December April 1999 Nome e tipo d istituto di istruzione o PASTIS-CNRSM S.C.p.A. di Brindisi Principali materie e competenze Professional school: "Technologies for the development of new materials and their applications" In ordine di data /Dates (from to) April April 1995 Nome e tipo d istituto di istruzione o PASTIS-CNRSM S.C.p.A. di Brindisi Principali materie e competenze Internship at the Microstructural Analysis Group coordinated by Dr. L. Tapfer. Experimental studies on the structural properties of powders, thin films, polycrystals and single crystals by x-ray diffraction, specular reflectivity and diffuse scattering measurements. In ordine di data /Dates (from to) September March 1992 Nome e tipo d istituto di istruzione o Istituto di Elettronica dello Stato Solido (IESS-CNR) di Roma Page 3 - Curriculum vitae

4 Principali materie e competenze Certificato o diploma ottenuto /Title of Internship in the group of x-ray diffraction coordinated by Dr. S. Lagomarsino. X-ray diffraction experiments of single and double crystal. Surface treatments on Si substrates; epitaxial growth of thin films (FeSi2) by solid phase epitaxy on Si substrates and characterization "in situ" by AUGER spectroscopy and low energy electron diffraction (LEED) Certificate of Attendance In ordine di data /Dates (from to) September 1992 Nome e tipo d istituto di istruzione o CNRSM S.p.A. di Brindisi Principali materie e competenze International school of physics and technology of semiconductor devices In ordine di data /Dates (from to) Nome e tipo d istituto di istruzione o Istituto Tecnico Industriale Statale (ITIS) dell'erba di Castellana Grotte (BA) Principali materie e competenze Chemical analysis of waters for civil and industrial use. Removal and recovery of ammonium ion from wastewater using natural zeolites Certificato o diploma ottenuto /Title of Diploma in Chemistry (Industrial Chemistry). voting 48/60 COMPETENZE TECNICHE/ TECHNICAL EXPERTISE Standing expertise in CVD graphene manipulation:i) graphene transfering from copper (Cu) to several substrates (Si, SiO2, glass, quartz, sapphire, PET, PI, multilayer-graphene); ii) graphene functionalization by wet and dry methodologies; iii) electrical (hall mobility measurements), optical (transmittance), chemical and structural characterization (Raman spectroscopies) and relative sample preparation (electrical contacts deposition, transferring on substrate, cleaning, etc.). Expertise in vacuum technologies of reactors for Chemical and Physical vapor deposition (CVD and PVD), also by plasma enhanced methodologies (PECVD) and by molecular beam epitaxy (MBE), for the growth and treatment of thin film and nanostructured materials: i)graphene (CVD-G on Cu and epitaxial-g on SiC); ii) semiconductors (amorphous and microcrystalline silicon and silicon alloys); dielectrics (SiO 2, Er 2O 3, and ZnO); iiii) metals (Au and Ag nanoparticles). Expertise in installation and use of diagnostic techniques for vacuum systems for the in situ monitoring of materials growing processes: mass spectroscopy, OES spectroscopy, Auger spectroscopy, LEED diffraction, spectroscopic ellipsometry; laser interferometry (LRI). Electrical characterization of materials (I-V characteristics, Sheet resistance, Hall mobility, etc) and of devices (PV conversion efficiency). Page 4 - Curriculum vitae

5 Expertise in the maintenance of X-ray diffractometer and related expertice in i) powder and thin films analysis (texture, stress, low angle scattering, high resolution) and ii) softwares and databases for data manipulation. Expertise in maintenance of Raman and micro-raman spectrometers (laser alignment, calibration and hardware implementation) and relative use also by Raman Imaging and Surface enhanced Raman Spectroscopy methodologies. Recenti attività scientifiche/ Recent Scientific Activities. 1) Graphene growth by chemical vapor deposition (CVD) 2) Functionalization of graphene 3) Electric, optical and chemical characterization of graphene by Hall measurements and Raman spectroscopies 4) Plasma deposition and treatments of materials and surfaces ULTERIORI INFORMAZIONI / ADDITIONAL INFORMATION PARTICIPATION IN INTERNATIONAL AND NATIONAL RESEARCH PROJECTS European Project 7FP "MEM4WIN" (GA ) Ultra thin glass membranes for advanced, adjustable and affordable quadruple glazing windows for zero-energy buildings Research Project RETI DI LABORATORI PUBBLICI DI RICERCA, COD. 15 SENS&MICRO LAB - Laboratorio regionale per la realizzazione di sensori e microsistemi avanzati per il settore aeronautico (POFESR , code number 15) European Project 7FP "NIMNIL" (GA ) Large area fabrication of 3D negative index metamaterials by nanoimprint lithography European Project 7FP "NANOCHARM" (GA ) Multifunctional nanomaterials characterization exploiting ellipsometry and polarimetry. Page 5 - Curriculum vitae

6 C U R R I C U L U M V I T A E F O R M A T O E U R O P E O / E U R O P E A N F O R M A T INFORMAZIONI PERSONALI/ PERSONAL INFORMATION Nome, Cognome/Name, Surname Indirizzo/Address Via, numero civico, c.a.p., città, nazione/ House number, street name, postcode, city, country Alberto SACCHETTI Telefono/Telephone Sito web/website Nazionalità/Nationality Luogo e data di nascita/ Place and Date of birth Istituto di Nanotecnologia CNR-NANOTEC c/o Dipartimento di Chimica - Campus Universitario Via Orabona, Bari - Italy Fax alberto.sacchetti@nanotec.cnr.it alberto.sacchetti@cnr.it Italy ESPERIENZA PROFESSIONALE/ WORK EXPERIENCE Se dipendente CNR indicare: N. MATRICOLA 8935 QUALIFICA COLLABORATORE TECNICO ENTI DI RICERCA CNR LIVELLO V In ordine di data /Dates (from to) Nome e indirizzo del datore di lavoro Tipo o settore di attività / Type of Principali mansion e responsabilità / In ordine di data /Dates (from to) Nome e indirizzo del datore di lavoro Tipo o settore di attività / Type of Principali mansion e responsabilità / 2015-Present CNR-Istituto di Nanotecnologia, Bari, Italy Material Scientist Collaboratore tecnico livello V Crescita di materiali, sviluppo e sintesi di processo; deposizioni via plasma di materiali a base di silicio; crescita CVD, processing, funzionalizzazione e caratterizzazione di graphene ( Aprile) CNR-Istituto di Metodologie Inorganiche e dei Plasmi, Bari, Italy Material Scientist Collaboratore tecnico livello V Crescita di materiali, sviluppo e sintesi di processo; deposizioni via plasma di materiali a base di silicio; crescita CVD, processing, funzionalizzazione e caratterizzazione di graphene. Page 6 - Curriculum vitae

7 In ordine di data /Dates (from to) Nome e indirizzo del datore di lavoro CNR-Istituto di Metodologie Inorganiche e dei Plasmi, Bari, Italy Tipo o settore di attività / Type of Plasmachemistry Collaboratore Tecnico livello VI Principali mansion e responsabilità / Crescita di materiali, sviluppo e sintesi di processo; deposizioni via plasma di materiali a base di silicio; crescita CVD. In ordine di data /Dates (from to) Nome e indirizzo del datore di lavoro PA.S.T.I.S.-C.N.R.S.M. S.C.p.A. S.S.7 Appia Brindisi Tipo o settore di attività / Type of Caratterizzazione microstrutturali di materiali Tecnico di laboratorio VI livello funzionale del C.C.N.L. Metalmeccanico Principali mansion e responsabilità / Addetto alle tecniche di caratterizzazione microstrutturali e microanalitiche di materiali: XRD In ordine di data /Dates (from to) Nome e indirizzo del datore di lavoro PA.S.T.I.S.-C.N.R.S.M. S.C.p.A. S.S.7 Appia Brindisi Tipo o settore di attività / Type of Caratterizzazione microstrutturali di materiali Tecnico di laboratorio con contratto di formazione e lavoro di 24 mesi V livello funzionale del C.C.N.L. Metalmeccanico Principali mansion e responsabilità / Addetto alle tecniche di caratterizzazione microstrutturali e microanalitiche di materiali: XRD In ordine di data /Dates (from to) Nome e indirizzo del datore di lavoro C.N.R.S.M. S.p.A. S.S.7 Appia Brindisi Tipo o settore di attività / Type of Caratterizzazione microstrutturali di materiali Tecnico di laboratorio con borsa di studio biennale nell'ambito del Piano di Formazione per ricercatori e tecnici del Centro Nazionale per la Ricerca e lo Sviluppo dei Materiali. Principali mansion e responsabilità / Addetto alle tecniche di caratterizzazione microstrutturali e microanalitiche di materiali: XRD ISTRUZIONE E FORMAZIONE / EDUCATION AND TRAINING In ordine di data /Dates (from to) Ottobre 2012 Nome e tipo d istituto di istruzione o Dipartimento di Scienze dell'ambiente e del Territorio e di scienze della Terra dell'università di Milano-Bicocca Principali materie e competenze Certificato o diploma ottenuto /Title of II scuola di dottorato dal tema: Applicazione della Spettroscopia Raman alle scienze della terra Certificate of Attendance In ordine di data /Dates (from to) Novembre 2006 Nome e tipo d istituto di istruzione o Horiba Jobin Yvon Page 7 - Curriculum vitae

8 Principali materie e competenze Certificato o diploma ottenuto /Title of Corso sul controllo tecnico e sulla gestione degli ellissometri a modulazione di fase Certificate of Attendance In ordine di data /Dates (from to) Ottobre Giugno 2004 Nome e tipo d istituto di istruzione o Britannia College di Putignano (BA) Principali materie e competenze Corso di inglese In ordine di data /Dates (from to) 2002 Nome e tipo d istituto di istruzione o Dipartimento di Fisica dell'università di Lecce Principali materie e competenze 3 Corso di Fisica e Tecnologia del Vuoto In ordine di data /Dates (from to) Dicembre Aprile 1999 Nome e tipo d istituto di istruzione o PASTIS-CNRSM S.C.p.A. di Brindisi Principali materie e competenze Corso di formazione professionale teorico-pratico "Tecnologie per lo sviluppo di nuovi materiali e loroapplicazioni" nell'ambito del programma di formazione professionale e riqualificazione del personale tecnico addetto alla ricerca In ordine di data /Dates (from to) Aprile Aprile 1995 Nome e tipo d istituto di istruzione o PASTIS-CNRSM S.C.p.A. di Brindisi Principali materie e competenze Stage formativo presso il gruppo di analisi microstrutturali coordinato dal Dr. L. Tapfer. Studi sperimentali delle proprietà strutturali di polveri, film sottili, policristalli e monocristalli attraverso tecniche di scattering di raggi-x quali diffrazione a singolo, doppio e triplo cristallo, reflettività speculare e misure di scattering diffuso; tessiture e stress residui. In ordine di data /Dates (from to) Settembre Marzo 1992 Page 8 - Curriculum vitae

9 Nome e tipo d istituto di istruzione o Principali materie e competenze Certificato o diploma ottenuto /Title of Istituto di Elettronica dello Stato Solido (IESS-CNR) di Roma Stage formativo presso il gruppo di diffrazione di raggi x coordinato dal Dr. S. Lagomarsino. Esperimenti di diffrazione di raggi x a singolo e a doppio cristallo. Trattamenti superficiali su substrati di Si; crescita epitassiale di film sottili (FeSi 2 ) per epitassia da fase solida su substrati di Si tramite reattore in Ultra Alto Vuoto con conseguente caratterizzazione in "situ": spettroscopia AUGER e diffrazione di elettroni a bassa energia (L.E.E.D.) Certificate of Attendance In ordine di data /Dates (from to) Settembre 1992 Nome e tipo d istituto di istruzione o CNRSM S.p.A. di Brindisi Principali materie e competenze Scuola internazionale di fisica e tecnologia di dispositivi a semiconduttore In ordine di data /Dates (from to) Nome e tipo d istituto di istruzione o Istituto Tecnico Industriale Statale (ITIS) dell'erba di Castellana Grotte (BA) Principali materie e competenze Approfondimenti teorici e pratici sulle analisi chimiche delle acque di scarico civili ed industriali con stesura di una tesina dal titolo: Rimozione e recupero dello ione ammonio da acque di scarico tramite zeoliti naturali Certificato o diploma ottenuto /Title of Diploma di Perito Chimico con specializzazione in Chimica Industriale. Votazione 48/60 COMPETENZE TECNICHE/ Affinata esperienza nella manipolazione di graphene CVD: i) trasferimento dal substrato di crescita (Cu) a vari substrati (Si, SiO 2, glass, quarzo, sapphire, PET, PI, graphene-multistrato); ii) funzionalizzazione attraverso metodologie wet e dry di film di graphene mono e multistrato; iii) caratterizzazione elettrica (misure di mobilità Hall), ottica (assorbimento), chimica e strutturale (spettroscopia micro-raman) di graphene e relativa preparazione dei campioni (deposizione contatti elettrici, trasferimento su substrato trasparente, cleaning per rimozine contaminanti superficiali, etc.). Conoscenze nel campo delle tecnologie del vuoto, dell architettura di reattori per processi di deposizione fisica e chimica da fase vapore (PVD e CVD), anche attraverso metodologie plasmochimiche (PECVD) e di epitassia da fasci molecolari (MBE), per la crescita ed il trattamento di film sottili e materiali nanostrutturati: i) graphene (CVD-G su substrati di Cu e Epitaxial-graphene su SiC); ii) semiconduttori (in particolare film sottili di silicio e sue leghe); iii) dielettrici (SiO2, Er2O3, ZnO); iiii) e metallici (nanoparticelle di Au e Ag). Uso e interfacciamento di tecniche per la caratterizzazione di sistemi da vuoto ed il monitoraggio dei processi di crescita: spettrometria di massa, spettroscopia OES, spettroscopia Auger, diffrazione LEED, spettroscopia ellissometrica, interferometria laser (LRI). Caratterizzazione elettrica di materiali (caratteristica corrente-tensione, Sheet resistance, mobilità Hall, etc) e dispositivi (efficienza di conversione di dispositivi fotovoltaici). Page 9 - Curriculum vitae

10 Uso e manutenzione ordinaria/straordinaria di diffrattometri a raggi-x e relativa esperienza i) nell'analisi sperimentale di polveri e film sottili (tessitura, stress, misure di scattering a basso angolo e in alta risoluzione) e ii) nell'uso di programmi specifici per l'elaborazione dei dati sperimentali per il riconoscimento delle fasi cristallografiche. Uso e manutenzione ordinaria (allineamento ottiche e calibrazione) e straordinaria (implementazione della componentistica) di spettrometri Raman e micro-raman e relativa esperienza nelle tecniche di Raman Imanging e Surface Enhanced Raman Spectroscopy. Recenti attività scientifiche/ Recent Scientific Activities. 1) Graphene growth by chemical vapor deposition (CVD) 2) Functionalization of graphene 3) Electric, optical and chemical characterization of graphene by Hall measurements and Raman spectroscopies 4) Plasma deposition and treatments of materials and surfaces ULTERIORI INFORMAZIONI / ADDITIONAL INFORMATION PARTICIPATION IN INTERNATIONAL AND NATIONAL RESEARCH PROJECTS European Project 7FP "MEM4WIN" (GA ) Ultra thin glass membranes for advanced, adjustable and affordable quadruple glazing windows for zero-energy buildings Research Project RETI DI LABORATORI PUBBLICI DI RICERCA, COD. 15 SENS&MICRO LAB - Laboratorio regionale per la realizzazione di sensori e microsistemi avanzati per il settore aeronautico (POFESR , code number 15) European Project 7FP "NIMNIL" (GA ) Large area fabrication of 3D negative index metamaterials by nanoimprint lithography European Project 7FP "NANOCHARM" (GA ) Multifunctional nanomaterials characterization exploiting ellipsometry and polarimetry. Page 10 - Curriculum vitae