Area ad elevata concentrazione di stabilimenti di Novara - S. Agabio

Transcript

1 PREFETTURA di NOVARA Ufficio Territoriale del Governo PIANO DI EMERGENZA ESTERNO (Art. 20 D. Lgs. 334/99 e s.m.i.) Area ad elevata concentrazione di stabilimenti di Novara - S. Agabio Comune di Novara ALLEGATO 2C - MEMC Descrizione dello stabilimento e ipotesi incidentali Planimetrie: omissis Impianti e stoccaggi con presenza di pericolose Centri di pericolo e cerchi di danno Viabilità interna e vie di esodo Rete antincendio di stabilimento Rete fognaria

2 DESCRIZIONE STABILIMENTO La MEMC Electronic Materials è un gruppo internazionale produttore di silicio iperpuro, attivo nel mercato della microelettronica e, dal 2004, del solare fotovoltaico. La sede del gruppo si trova a St.Peters, nel Missouri (USA); conta nel mondo dodici stabilimenti produttivi (quattro negli Stati Uniti, uno in Giappone, tre in Malesia, uno a Taiwan, uno in Corea) e copre con la rete commerciale tutto il globo. La presenza produttiva di MEMC in Europa è rappresentata dalla MEMC Electronic Materials SpA costituita dagli stabilimenti di Merano e di Novara. I clienti di Memc sono le principali aziende che operano nei settori della microelettronica (informatica, telecomunicazioni, telefonia cellulare, alta fedeltà, trasporti, elettromedicali, elettronica industriale) e del solare fotovoltaico. Lo stabilimento di Novara effettua la trasformazione delle sbarre di silicio monocristallino in dischi (o fette) di spessore molto ridotto utilizzate nell industria microelettronica per la fabbricazione di circuiti integrati. Le principali operazioni eseguite sono descritte nel seguito. 1) TAGLIO La trasformazione delle barre di silicio in fette viene eseguita con un operazione di taglio che può essere eseguita con differenti tecnologie: utilizzando taglierine, macchine a controllo numerico, dotate di lame anulari con parte interna ricoperta da polvere finissima di diamante; (questa tecnologia è quasi del tutto soppiantata da quella descritta successivamente) utilizzando fili d acciaio disposti in appositi sostegni che li tengono separati ed equidistanti. Utilizzando fili diamantati disposti in appositi sostegni che li tengono separati ed equidistanti. Le fette così ottenute, che hanno spessori di qualche centinaio di micron, con tolleranza di 10 micron, vengono prima lavate in vasche contenenti soluzioni acide (acido acetico) e alcaline (idrossido di potassio) e successivamente risciacquate con acqua e detergenti. Il bordo delle fette viene quindi arrotondato utilizzando apposite macchine a controllo numerico per dare robustezza meccanica alla fetta stessa. 2) LAPPATURA L operazione di lappatura consiste nel far scorrere su macchine automatiche le fette di silicio tra due piani metallici controrotanti usando un abrasivo (allumina) a grana fine (pochi micron) in sospensione. Al termine dell operazione di lappatura le fette vengono sottoposte al procedimento di lavaggio in macchine automatiche costituite da una serie di vasche contenenti acqua deionizzata con o senza detergenti e provviste di sistemi di pulizia ad ultrasuoni. Successivamente le fette vengono sottoposte ad un operazione di attacco acido con una miscela a base di acido fluoridrico, acido nitrico, acido acetico o alternativamente di acido fluoridrico, acido nitrico, acido fosforico e successivamente in una vasca di risciacquo ove è previsto un flussaggio continuo di acqua deionizzata, oppure ad una fase di attacco caustico analoga alla precedente ma che utilizza idrossido di potassio o di sodio per la fase di attacco. Il comportamento elettrico delle fette viene stabilizzato attraverso un trattamento termico in forni orizzontali con raffreddamento forzato. 3) DEPOSIZIONE CHIMICA DA FASE VAPORE (CVD) è un'operazione che viene fatta solo su richiesta del cliente con lo scopo di realizzare il danneggiamento del retro delle fette. L'operazione consiste nel depositare uno strato di silicio policristallino di circa 1 micron sul retro della fetta mediante decomposizione di silano (SiH4) a A L L E G A T O 2 C - M E M C

3 circa 700 C, in appositi forni e nel sigillare succ essivamente il retro stesso delle fette attraverso la reazione in forni appositi a pressione atmosferica di silano (SiH4) e ossigeno (O2) per formare uno strato di ossido di silicio che ha lo scopo di controllare il parametro di resistività durante la reazione epitassiale. Le operazioni sopra descritte vengono effettuate a metà del flusso di produzione ed in particolare prima della lucidatura a specchio di una faccia della fetta; in questo modo gli strati di silicio policristallino e di ossido di silicio risulteranno sul retro della fetta stessa. 4) LUCIDATURA Tale operazione permette di ottenere superfici lucidate a specchio ovvero senza alcuna microrugosità, assolutamente prive di qualsiasi traccia di sporco o difetti superficiali. Il procedimento di lucidatura viene eseguito su una sola faccia in due fasi distinte: prelucidatura e lucidatura finale. Le fette vengono incollate su supporti piani satelliti mediante l operazione di incollaggio che prevede l utilizzo di una miscela collante a base acquosa contenente ca 5% di alcool isopropilico, l 1% di ammoniaca, resina maleica ed altri componenti minori quali tensioattivi e coloranti utilizzati anche nelle industrie alimentari. I satelliti con le fette vengono, quindi, fissati sui piani rotanti delle macchine di prelucidatura e di lucidatura finale. Durante tale processo i satelliti vengono posti in rotazione a contatto con un panno imbevuto di una soluzione colloidale abrasiva opportuna (silice amorfa a diversa granulometria) a sua volta fissato ad un altro piano rotante per ottenere la lucidatura di una faccia. Successivamente le fette vengono separate automaticamente dai satelliti, mediante l operazione di scollaggio che prevede l utilizzo di una soluzione acquosa debolmente ammoniacale. L operazione successiva di lavaggio finale viene eseguita per eliminare completamente l impurezza residua lasciata dalle precedenti lavorazioni; questi lavaggi decontaminanti vengono effettuati in ambienti estremamente puliti ed asettici ( clean rooms ), dove tutto ciò che viene a contatto direttamente o indirettamente con le fette, deve essere iperpuro. Le fette provenienti dalla lucidatura vengono sottoposte ad una sequenza di bagni in soluzioni acide (acido nitrico, fluoridrico, cloridrico), basiche (ammoniaca e acqua ossigenata) e detergenti. Vengono, infine, trattate con acqua deionizzata e ozonizzata, con o senza l ausilio di ultrasuoni. L asciugatura delle superfici decontaminate. 5) EPITASSIA è un operazione che permette di migliorare le prestazioni di alcune famiglie di circuiti integrati. Il processo permette di realizzare la crescita di uno strato di silicio monocristallino di spessore variabile su una fetta di silicio ad alta resistività attraverso la decomposizione di triclorosilano con tracce di fosfina, diborano in atmosfera di idrogeno. Tale processo si realizza in opportuni reattori, detti appunto epitassiali, ove le fette subiscono dei trattamenti con gas (fosfina, diborano, triclorosilano e acido cloridrico) in opportune condizioni ambientali (elevate temperature, presenza di idrogeno, ecc). Al termine dell operazione di epitassia le fette vengono avviate alla fase di controllo e successivamente inscatolate, confezionate e spedite. Impianti Ausiliari In azienda sono presenti i seguenti impianti direttamente connessi alle attività lavorative: stoccaggio carri bombolai di acido cloridrico anidro in bunker box bombole stoccaggi gas criogenici (idrogeno, ossigeno, azoto ed argon) stoccaggi miscele acide concentrate produzione Acqua Deionizzata trattamento Acque Reflue: le acque di processo e gli scarichi idrici vengono trattati in un impianto chimico/fisico seguito da un impianto biologico di depurazione e successivamente immesse in acqua superficiale entro i limiti consentiti per legge A L L E G A T O 2 C - M E M C 2

4 Presenza media teorica durante i giorni lavorativi: giornalieri: 310 persone (dalle 7.00 alle 19.00) Orario di lavoro e lavoratori presenti turnisti notturni: 90 persone( sempre presenti nei tre turni ) Esterni+ visitatori: 50 persone (presenza media dalle 7.00 alle 19.00) Presenza media teorica durante i fine settima e /o festivi: giornalieri: 10 persone (presenza media dalle 7.00 alle 19.00) turnisti notturni: 90 persone(sempre presenti nei tre turni ) Esterni+ visitatori: 10 persone (presenza media dalle 7.00 alle 19.00) Ipotesi incidentali di riferimento Gli eventi incidentali, in relazione all intensità degli effetti attesi ed alla loro tipologia (energetica, tossica, ecc.), sono stati raggruppati per livelli di allerta (attenzione, preallarme e allarme) e per tipologia di effetti (energetici, tossici, ecc..) secondo lo schema indicato nella sezione 2 del PEE. Per rendere immediatamente associabili gli eventi codificati con quelli descritti dal gestore, in seguito ai risultati dell analisi del rischio dallo stesso prodotta, è stata adottata la medesima numerazione alfanumerica proposta dal gestore con relativa corrispondenza nella mappa delle conseguenze di stabilimento. Si adottano, nel seguito, le distanze di danno riferite, a vantaggio di sicurezza, alle condizioni di stabilità atmosferica a cui corrispondono per le dispersioni una maggiore area di impatto. In parentesi sono riportate le distanze, cautelativamente maggiorate, da cui sono stati dedotti con riferimento a quelli più significativi- gli inviluppi dei cerchi di danno riportati nella cartografia operativa della pianificazione di emergenza esterna. Si precisa che le distanze di danno sono calcolate dal centro di pericolo corrispondente, identificato dall unità dello stabilimento in cui si può verificare lo scenario. STATO DI ATTENZIONE DI STABILIMENTO INCIDENTI DI I LIVELLO Evento 1-Tipologia E Incendi molto limitati riconducibili essenzialmente all innesco di piccoli rilasci di infiammabili e/o combustibili. Tali scenari, in via generale, non sono stati valutati in termini di conseguenze per l esiguità dell evento e, nei casi in cui si è proceduto, comunque presentano effetti assolutamente trascurabili. Evento 2-Tipologia T Emissioni molto contenute, quali quelle ipotizzabili da trafilamenti di apparecchiature e/o rotture minori. Tali scenari non sono stati valutati in termini di conseguenze per l esiguità dell evento e, nei casi in cui si è proceduto, comunque presentano effetti limitati e contenuti all interno dello stabilimento A L L E G A T O 2 C - M E M C 3

5 EVENTO 3-Tipologia T STATO DI PREALLARME STABILIMENTO/ATTENZIONE DI POLO INCIDENTI DI II LIVELLO Questo raggruppamento comprende rilasci tossici contenuti. Rientrano in tale codifica rilasci tossici contenuti, quali quelle ipotizzabili da rotture di apparecchiature e/o rotture di linee comportanti rilasci di pericolose, i cui effetti non hanno verosimilmente ripercussioni all esterno in termini di pericoli per la popolazione. Potrebbero, però, comportare eventuali effetti evolutivi o solo essere avvertiti dalla maggior parte della popolazione esposta comportando la necessità di attivazione delle procedure di sicurezza e di informazione. Sono riportati nella seguente tabella gli eventi incidentali ipotizzati nel rapporto di sicurezza, di cui sono state calcolate le conseguenze, che possono essere ricompresi in questa categoria di incidenti. Le distanze di danno sono calcolate dal centro di pericolo corrispondente, identificato dall unità dello stabilimento in cui si può verificare lo scenario. Unità Ipotesi Scenario Sostanza Prima zona (di sicuro impatto) Seconda zona (di danno) Terza zona (di attenzione) 7. di soluzione di ammoniaca al 25% Ammoniaca in soluzione acquosa n.r. 50(60) 213 (220) 8. di acido cloridrico acquosa al 30-37% durante lo scarico dell autocisterna Acido cloridrico acquosa al 30-37% 5 35(40) 171 (180) 9. di acido fluoridrico acquosa al 49% per fessurazione IBC (bonzetta 1m 3 ) Acido fluoridrico acquosa al 49% n.r. 41(50) 133 (140) 10. all aperto da manichetta di carico della miscela Cr/HF esausta Miscela Cromica esausta con HF < 20% n.r. n.r. 62 (70) A L L E G A T O 2 C - M E M C 4

6 EVENTO 4 - Tipologia E Rilasci tossici contenuti, quali quelle ipotizzabili da rotture di apparecchiature e/o di linee. Sono riportati nella seguente tabella gli eventi incidentali ipotizzati nell analisi dei rischi. Unità Ipotesi Scenario Sostanza Prima zona (di sicuro impatto) Seconda zona (di danno) Terza zona (di attenzione) Impianto trattamento acque 1. di liquido infiammabile da perdita della manichetta durante lo scarico di autobotte per rottura completa Pool-fire Soluzione idroalcolica (liquefeed 25 - Biocarb R carbonline 40) 5 7.5(10) 9(15) infiammabili 5. di liquido infiammabile da un fusto all interno del compartimento dell isopropanol o Pool-fire isoproanolo 9 14,5(18) 18(20) Evento 5 Tipologia N Sversamento e successiva contaminazione delle matrici ambientali. Tale evento non corrisponde a scenari ipotizzati nell analisi del gestore. Tuttavia, considerata la presenza nello stabilimento di consistenti quantitativi di pericolose per l ambiente e la vicinanza a corpi idrici superficiali (fiume Terdoppio), si prende a riferimento in questo PEE la possibilità che si possano verificare scenari incidentali relativi a sversamenti che potrebbero provocare contaminazioni delle matrici ambientali. Si fa corrispondere tale tipologia di eventi ad uno stato di Preallarme di stabilimento e di attenzione di polo in quanto non coinvolgerebbe sin da subito la popolazione esterna con pericolo immediato, ma darebbe in primo luogo a interventi di monitoraggi e di contenimento. Dalle evoluzione negative dello scenario, comportante il possibile inquinamento della falda idrica, ne deriverebbero sviluppi di implicazioni di Protezione Civile (informazione alla popolazione, ecc..) con il passaggio alle procedure previste per il livello di Allarme di stabilimento e di preallarme di polo. A L L E G A T O 2 C - M E M C 5

7 Evento 6 Tipologia E STATO DI ALLARME STABILIMENTO/ PREALLARME O ALLARME DI POLO INCIDENTI DI III LIVELLO Incendi estesi che possono comportare grande sviluppo di fumi di combustione. Tali eventi non sono ipotizzabili nella normale conduzione dello stabilimento, pertanto non sono stati presi in considerazione nell analisi dei rischi elaborata dal gestore. Essi vengono presi cautelativamente in considerazione, in termini qualitativi, ai fini del presente PEE in quanto potrebbero verificarsi per una serie particolarmente sfavorevole di eventi corrispondenti a frequenze di accadimento molto basse. Evento 7 Tipologia T Questo raggruppamento comprende rilasci tossici importanti. Rientrano in tale codifica rilasci tossici, quali quelli ipotizzabili da rotture di apparecchiature, contenitori e/o di linee comportanti rilasci di pericolose i cui effetti hanno o possono avere ripercussioni all esterno dello stabilimento o dell area industriale circostante. Tali eventi non sono ipotizzabili nella normale conduzione dello stabilimento, pertanto non sono stati presi in considerazione nell analisi dei rischi elaborata dal gestore. Essi vengono presi cautelativamente in considerazione, in termini qualitativi, ai fini del presente PEE in quanto potrebbero verificarsi per una serie particolarmente sfavorevole di eventi corrispondenti a frequenze di accadimento molto basse. Evento 0 Tipologia T/E/N Casi catastrofici non ipotizzabili a priori o eventi provocati da atti deliberati. Considerato che le conseguenze di tali eventi non possono essere stimate, viene cautelativamente associato allo stato di ALLARME. Le azioni successive, coordinate dal Prefetto, seguiranno nei casi di attentati terroristici quanto previsto dal Piano Provinciale di Difesa Civile NBCR. A L L E G A T O 2 C - M E M C 6