ESERCIZIO 1 In gura è rappresentata una giunzione p + n (S=1 mm 2, µ n = 0.1 m 2 /Vs,

Dimensione: px
Iniziare la visualizzazioe della pagina:

Download "ESERCIZIO 1 In gura è rappresentata una giunzione p + n (S=1 mm 2, µ n = 0.1 m 2 /Vs,"

Transcript

1 PROVA SCRTTA di DSPOSTV ELETTRONC del 22 Febbraio 2019 ESERCZO 1 n gura è rappresentata una giunzione p + n (S=1 mm 2, µ n = 0.1 m 2 /Vs, µ p = 0.04 m 2 /Vs, τ p = τ n = 10 6 s). La parte n è drogata N D = cm 3 per x < 20 µm e N D = cm 3 per x > 20 µm. n=10 15 cm -3 n=5x10 17 cm -3 p + 20 um 1) Per V = 0.35 V vericare l'approssimazione di bassa iniezione; determinare l'eccesso di portatori minoritari per x = 19 µm e per x = 21 µm (trascurare l'ampiezza della regione di svuotamento), nonché la corrente nel diodo. [3] 2) Determinare il campo elettrico per x = 0 e per x = x n. [3] 3) Determinare il campo elettrico per x = 19 µm, per x = 21 µm e per x >> L p. [4] ESERCZO 2 n gura, è rappresentato un transistore n-mos polysilicon gate, N A = cm 3, µ n = 0.08 m 2 /Vs nel canale, t ox = 30 nm, W = 20 µm, L = 5 µm. Per t < 0 il transistore è polarizzato con V DS = 0.1 V, V SB = 5 V e V GB = 0. V DS V SB S V GB G D ossido n + n + Bulk 1) A t = 0 V GB viene portato a 5 V. Determinare la caduta di tensione nel silicio e le cariche sse e mobili per t = 0 + e per t = 5 ms. [4] 2) A t 0 = 5 ms V SB viene ridotta a 1 V (V GB viene mantenuta a 5 V). Determinare la caduta di tensione nel silicio per t + 0 e t.[3] 3) Determinare le cariche sse e mobili totali nel canale per t + 0 e t. [3]

2 ESERCZO 3 Nel circuito in gura, i transistori bipolari Q 1 e Q 2 sono n + pn, con N A = cm 3, N D = cm 3, τ n = 10 6 s, µ n = 0.1 m 2 /Vs, S = 1 mm 2. 1) Determinare la lunghezza metallurgica della base dei transistori per ottenere un β f almeno pari a 100. Determinare inoltre il valore di V CB per cui il β f raggiunge 150. [3] 2) Per V S = 0, determinare le correnti e le tensioni nei transistori (facendo le approssimazioni opportune). [3] 3) Determinare il guadagno in corrente complessivo minimo garantito β ftot minimo = U B1. [4] u Rc 500 Vcc 10 V Vu Vs Q1 Re1 50 k Q2 Re Vcc -10 V

3 ESERCZO 1 n gura è rappresentata una giunzione p + n (S=1 mm 2, µ n = 0.1 m 2 /Vs, µ p = 0.04 m 2 /Vs, τ p = τ n = 10 6 s). La parte n è drogata N D = cm 3 per x < 20 µm e N D = cm 3 per x > 20 µm. n=10 15 cm -3 n=5x10 17 cm -3 p + 20 um 1) Per V = 0.35 V vericare l'approssimazione di bassa iniezione; determinare l'eccesso di portatori minoritari per x = 19 µm e per x = 21 µm (trascurare l'ampiezza della regione di svuotamento), nonché la corrente nel diodo. [3] 2) Determinare il campo elettrico per x = 0 e per x = x n. [3] 3) Determinare il campo elettrico per x = 19 µm, per x = 21 µm e per x >> L p. [4] SOLUZONE 1 1) Avremo: D p = V T µ p = m 2 /s L p = D p τ p = µm ( ) δp(0) = n2 i e V V T 1 = m 3 N D Quindi siamo in condizioni di bassa iniezione, poiché δp(0) >> p 0 = n2 i N D = m 3 e δp(0) << n 0 = N D. l prolo di portatori minoritari non cambia in x = 20 µm,poiché l'eccesso è dovuto all'iniezione in x n e alla diusione di lacune. Una volta vericata la bassa iniezione, un aumento di portatori maggioritari non cambia la situazione. Quindi avremo: δp(19 µm) = δp(0)e = m 3 δp(21 µm) = δp(0)e = m 3

4 Essendo il prolo di portatori minoritari inalterato, la corrente nel diodo si calcola come sempre: = qs D p L p n 2 i N D ( ) ( ) e V V T 1 = e V V T 1 = 0.88 µa (1) 2) Avremo che il campo elettrico per x = 0 è quello dovuto alla regione di svuotamento, ed è pari a: E = qn D x n = qn D W (2) ɛ s ɛ s Calcoliamo la regione di svuotamento per V = 0.35 V ed il campo elettrico: ( ) ND N A V 0 = V T ln = V n 2 i W = 2ɛs qn D (V 0 V ) = 0.78 µm E = qn D W = 1.18 MV/m ɛ s Per x = x n avremo che il campo elettrico è molto piccolo (zero, per l'approssimazione di svuotamento completo). Tuttavia è calcolabile, considerando n n 0 = N D e δn(x) δp(x). Facendo riferimento alla formula riportata sulla dispensa abbiamo: qsµ n N D E(x) = + qs (D n D p ) δp(0)e L p E(x) = + (D n D p ) δp(0)e x qsµ n N D L p µ n N D D n = V T µ n = m 2 /s E(0) = + (D n D p ) δp(0) = V/m qsµ n N D L p µ n N D x 3) Nel primo caso (x = 19 µm) avremo che n = N D1 = m 3 : E(19 µm) = qsµ n N D1 + (D n D p ) L p µ n N D1 δp(0)e = 0.1 V/m (3)

5 Negli altri due casi abbiamo che n = N D2 = m 3 : E(21 µm) = E(x ) = + (D n D p ) δp(0)e = V/m qsµ n N D2 L p µ n N D2 = V/m qsµ n N D2 ESERCZO 2 n gura, è rappresentato un transistore n-mos polysilicon gate, N A = cm 3, µ n = 0.08 m 2 /Vs nel canale, t ox = 30 nm, W = 20 µm, L = 5 µm. Per t < 0 il transistore è polarizzato con V DS = 0.1 V, V SB = 5 V e V GB = 0. V DS V SB S V GB G D ossido n + n + Bulk 1) A t = 0 V GB viene portato a 5 V. Determinare la caduta di tensione nel silicio e le cariche sse e mobili per t = 0 + e per t = 5 ms. [4] 2) A t 0 = 5 ms V SB viene ridotta a 1 V (V GB viene mantenuta a 5 V). Determinare la caduta di tensione nel silicio per t + 0 e t.[3] 3) Determinare le cariche sse e mobili totali nel canale per t + 0 e t. [3] SOLUZONE 2 1) Calcoliamo: C ox = ɛ ox t ox = ψ B = kt q ln N A n i = Φ MS = E g 2q ψ B = V

6 Per V GB = 5 V e V SB = 5 V abbiamo che V GS = 0, e quindi non siamo all'inversione. nfatti, per raggiungere l'inversione abbiamo bisogno di V Si = 2ψ B + V SB, e quindi V GB non è sucientemente elevata per ottenere questa caduta nel silicio. Abbiamo dunque che, all'aumentare della V GB a 5 V, il silicio va in svuotamento profondo in un tempo molto rapido, limitato dalla mobilità delle lacune che si devono allontanare dall'interfaccia. Quindi a t = 0 + la situazione è la stessa di quella a t = 5 ms: il canale è svuotato, la carica mobile è trascurabile e tutta la carica è costituita da Q W (V Si ). Dobbiamo dunque scrivere l'equazione: V GB = 2ɛs qn A V Si C ox + V Si + Φ MS (4) con Φ MS = V. Risolvendo questa equazione abbiamo che il valore accettabile di V Si = 4.8 V. La carica, sia a t = 0 + che a t = t 0 = 5 ms, è pari a (in valore assoluto, negativa in segno): Q = Q W = 2ɛ s qn A V Si = C/m 2 (5) per un totale nel canale pari a Q W LW = s. 2) Nel caso V SB = 1 V e V GB = 5 V il condensatore MOS è in inversione. nfatti, calcoliamo la tensione di soglia (riferita al Source) con V SB = 1 V, e ricordiamo che V GS = V GB V SB = 4 V. V T H = 2ɛ s qn a (2ψ B + V SB ) C ox + 2ψ B + Φ MS = 0.44 V (6) Quindi avremo semplicemente che la caduta di tensione nel silicio è pari a 2ψ B più la tensione di polarizzazione source-substrato: V Si = 2ψ B + V SB = V. È ovviamente la stessa a t + 0 e a t, dato che il tempo di formazione del canale è legato al drift di elettroni dal pozzetto di Source verso il canale stesso. Una stima del tempo di formazione del canale è il tempo di transito nel canale stesso (vedi formula sulla dispensa). 3) Come detto nel punto precedente, le cariche sse e mobili sono le stesse a t + 0 (per tempi superiori al tempo di transito) e per t. La carica ssa è quella della regione di svuotamento dovuta alla caduta di tensione nel silicio

7 (in valore assoluto, é negativa): Q W = 2ɛ s qn A (2ψ B + V SB ) = C/m 2 Q W tot = LW Q W = C La carica mobile è quella del canale. Dato che V DS è piccola (regime lineare), la carica è costante sotto il canale, e può essere scritta come (in valore assoluto, è negativa): Q n = C ox (V GS V T H ) = C/m 2 Q n tot = W LQ n = C ESERCZO 3 Nel circuito in gura, i transistori bipolari Q 1 e Q 2 sono n + pn, con N A = cm 3, N D = cm 3, τ n = 10 6 s, µ n = 0.1 m 2 /Vs, S = 1 mm 2. 1) Determinare la lunghezza metallurgica della base dei transistori per ottenere un β f almeno pari a 100. Determinare inoltre il valore di V CB per cui il β f raggiunge 150. [3] 2) Per V S = 0, determinare le correnti e le tensioni nei transistori (facendo le approssimazioni opportune). [3] 3) Determinare il guadagno in corrente complessivo minimo garantito β ftot minimo = U B1. [4] SOLUZONE 3 1) Per avere un β f almeno pari a 100 (β f minimo = 100): β f = τ n = τ n τ W 2 t 2D n D n = V T µ n = m 2 /V s τ n W = 2D n = 7.2 µm β f dove W è la lunghezza metallurgica della base. La lunghezza eettiva di base in zona attiva diretta è senz'altro più piccola, quindi sicuramente β f > β f min.

8 u Rc 500 Vcc 10 V Vu Vs Q1 Re1 50 k Q2 Re Vcc -10 V Un β f = 150 signica una W effettiva = τ 2D n n 150 che x nbc = = 1.3 µm. Per cui: N AB + N DC W BC = X nbc = 1.95 µm N DC ( 2ɛs 1 W BC = + 1 ) (V 0 + V BC ) q N A N D V 0 + V BC = qw BC 2 N AB N DC = 9.63 V 2ɛ s N AB + N DC V 0 = V T ln N AN D V BC = 8.95 V n 2 i = V = 5.9 µm. Quindi abbiamo 2) Avremo: V E1 = 0.7 V V E2 = 1.4 V E2 = V E2 ( V CC ) R E2 = 17.2 ma

9 E1 max = V E1 ( V CC ) R E1 + E2 β f min = ma C2 E2 C1 E1 RC = C2 + C1 C2 = 17.2 ma V u = V CC R C RC = 1.4 V Quindi i transistori risultano polarizzati correttamente: V CE1 = V u V E1 = 2.1 V C1 E1 = 0.36 ma B1 max = 3.6 µa V CE2 = V u V E2 = 2.8 V C2 E2 = 17.2 ma B2 max = µa 3) l guadagno in corrente complessimo è semplicemente dato da u diviso la corrente B1 massima, che si ottiene con il β f minimo : β f complessivo minimo = u B1 max = 4778 (7)

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 9 Gennaio ESERCIZIO 1 Si consideri un diodo pn con W n = W p = 500 µm, N A = N D = cm 3,

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 9 Gennaio ESERCIZIO 1 Si consideri un diodo pn con W n = W p = 500 µm, N A = N D = cm 3, PROVA SCRTTA di DSPOSTV ELETTRONC del 9 Gennaio 2016 ESERCZO 1 Si consideri un diodo pn con W n = W p = 500 µm, N A = = 10 15 cm 3, τ n = τ p = 1 µs, µ n = 1500 cm 2 /Vs, µ p = 400 cm 2 /Vs, S = 1 mm 2.

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 3 Luglio 2019

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 3 Luglio 2019 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 3 Luglio 2019 ESERCIZIO 1 Un diodo p + n è a base corta: W = 4 µm, N D = 10 16 cm 3, µ n = 0.1 m 2 /Vs, µ p = 0.04 m 2 /Vs, τ p = τ n = 10 6 s, S=1 mm 2. 1)

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 3 Febbraio 2018

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 3 Febbraio 2018 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 3 Febbraio 2018 ESERCIZIO 1 In gura è rappresentato un pezzo di silicio, drogato da una parte n + (N D = 10 19 cm 3, µ n+ = 0.015 m 3 ) e dall'altra n (N D

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 8 Giugno 2015

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 8 Giugno 2015 DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 8 Giugno 2015 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Il transistore in gura è un n + pn + con base = 10 16 cm 3, τ n = 1 µs, µ n = 0.1 m 2 /Vs, S = 1mm 2. La resistenza R C = 1 kω, e V CC = 12

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 29 Giugno 2015

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 29 Giugno 2015 DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 29 Giugno 2015 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore (emettitore n + ) è caratterizzato da base = 5 10 15 cm 3, lunghezza metallurgica W met = 4 µm, τ n = 1 µs, µ n = 0.1 m 2

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 6 Febbraio 2019

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 6 Febbraio 2019 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 6 Febbraio 2019 ESERCIZIO 1 In gura sono rappresentati due diodi identici: N A = 10 16 cm 3, N D = 10 15 cm 3, µ n = 0.1 m 2 /Vs, µ p = 0.03 m 2 /Vs, τ n =

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 19 Settembre 2018

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 19 Settembre 2018 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 19 Settembre 2018 ESERCIZIO 1 Nel circuito in gura (V CC = 8 V, R = 1 kω), il transistore npn ha N Demettitore = 10 17 cm 3 (emettitore lungo), N Abase = 10

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 15 Settembre 2017

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 15 Settembre 2017 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 15 Settembre 2017 ESERCIZIO 1 Una giunzione pn, con entrambe le basi lunghe, è caratterizzata da N A = N D = 5 10 15 cm 3, µ n = 0.11 m 2 /Vs, µ p = 0.04 m

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 10 Giugno 2016

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 10 Giugno 2016 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 0 Giugno 206 ESERCIZIO Il transistore bipolare npn nelle gure ha N Demettitore = N Dcollettore = 0 7 cm 3, N Abase = 0 6 cm 3, µ n = 0. m 2 /Vs, τ n = τ p =

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 16 Febbraio 2016

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 16 Febbraio 2016 DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 16 Febbraio 2016 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore bipolare npn (N Demettitore = N Abase = 10 16 cm 3, N Dcollettore = 5 10 15 cm 3, µ n = 0.1 m 2 /Vs, τ n = τ p = 10 6, µ

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 12 Giugno 2017

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 12 Giugno 2017 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 12 Giugno 2017 ESERCIZIO 1 Una giunzione p + n è caratterizzata da N D = 5 10 15 cm 3, µ p = 0.04 m 2 /Vs, τ p = 10 6 s, S = 1 mm 2. Questa giunzione è polarizzata

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 28 Gennaio 2016 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore bipolare n + pn (N Abase = cm 3, N Dcollettore = cm 3, µ

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 28 Gennaio 2016 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore bipolare n + pn (N Abase = cm 3, N Dcollettore = cm 3, µ DE e DTE: PROA SCRITTA DEL 28 Gennaio 2016 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore bipolare n + pn (N Abase = 10 16 cm 3, N Dcollettore = 10 15 cm 3, µ n = 0.1 m 2 /s, τ n = 10 6, S = 1 mm 2 ) è polarizzato

Dettagli

3) Determinare il campo elettrico per x = 50 µm (trascurare l'ampiezza

3) Determinare il campo elettrico per x = 50 µm (trascurare l'ampiezza DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 8 Gennaio 2016 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un diodo pn è caratterizzato da: S = 1 mm 2, N A = 10 16 cm 3, N D = 10 16 cm 3, µ n = 0.1 m 2 /Vs, µ p = 0.04 m 2 /Vs, τ n = 10 5 S (nella

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 24 Luglio 2019

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 24 Luglio 2019 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 24 Luglio 2019 ESERCIZIO 1 Un transistore npn a base corta è caratterizzato da: N Dem = 10 15 cm 3 (emettitore lungo), N Abase = 10 16 cm 3, N Dcoll = 10 15

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 15 Febbraio ESERCIZIO 1 Una giunzione pn è caratterizzata da N A = cm 3, N D = cm 3,

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 15 Febbraio ESERCIZIO 1 Una giunzione pn è caratterizzata da N A = cm 3, N D = cm 3, PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 15 Febbraio 2017 ESERCIZIO 1 Una giunzione pn è caratterizzata da N A = 5 10 15 cm 3, N D = 10 16 cm 3, µ n = 0.10 m 2 /Vs, µ p = 0.04 m 2 /Vs, τ n = τ p =

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 9 Luglio 2018

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 9 Luglio 2018 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 9 Luglio 2018 ESERCIZIO 1 Nel circuito in gura, il diodo p + n è illuminato alla supercie. La base p + è corta, W p = 5 µm, la base n è lunga. Abbiamo: N A

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 14 Febbraio 2015

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 14 Febbraio 2015 DE e DTE: PROVA SCRTTA DEL 14 Febbraio 2015 ESERCZO 1 (DE,DTE) due diodi in gura sono uno a base lunga (diodo A: p + n, N D = 5 10 15 cm 3, τ n = τ p = 1 µs, µ p = 0.04 m 2 /Vs, S = 1mm 2 ) e uno a base

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 8 Gennaio 2018

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 8 Gennaio 2018 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 8 Gennaio 2018 ESERCIZIO 1 Un transistore n + pn, con N ABase = N DCollettore = 5 10 15 cm 3, µ n = 0.11 m 2 /Vs, τ n = 10 6 s, S = 1 mm 2, è polarizzato con

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 13 Giugno 2018

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 13 Giugno 2018 POVA SCITTA di DISPOSITIVI ELETTONICI del 13 Giugno 2018 ESECIZIO 1 In gura è rappresentato un circuito, basato su un transistore bipolare n + pn +, = 2 kω. Per il transistore abbiamo N Abase = 10 16 cm

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 23 Luglio ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un diodo p + n a base lunga, con µ n = 1100 cm 2 /Vs, µ p = 200 cm 2 /Vs,

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 23 Luglio ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un diodo p + n a base lunga, con µ n = 1100 cm 2 /Vs, µ p = 200 cm 2 /Vs, DE e DTE: PROA SCRITTA DEL 23 Luglio 2015 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un diodo p + n a base lunga, con µ n = 1100 cm 2 /s, µ p = 200 cm 2 /s, τ n = τ p = 1 µs, N A = 10 19 cm 3, N D = 5 10 15 cm 3, S = 1 mm 2

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 30 Giugno 2016

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 30 Giugno 2016 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 30 Giugno 2016 ESERCIZIO 1 Considerare delle giunzioni p + n, con N D = 10 15 cm 3, µ n = 0.12 m 2 /Vs, S=1 mm 2. Il campo elettrico di break- down a valanga

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 22 Novembre 2018

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 22 Novembre 2018 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 22 Novembre 2018 ESERCIZIO 1 Nel circuito in gura il diodo A è una giunzione Schottky a base corta, substrato n = N D = 10 15 cm 3 e W n = 5 µm. Il metallo

Dettagli

ESERCIZIO 1 Il transistore bipolare in gura è caratterizzato da N Abase = cm 3,

ESERCIZIO 1 Il transistore bipolare in gura è caratterizzato da N Abase = cm 3, POVA SCITTA di DISPOSITIVI ELETTONICI del 17 Luglio 017 ESECIZIO 1 Il transistore bipolare in gura è caratterizzato da base = 5 10 15 cm 3, µ n = 0.11 m /Vs, µ p = 0.04 m /Vs, = τ p = 10 6 s, = 3 µm, S

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 27 Gennaio 2017

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 27 Gennaio 2017 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 27 Gennaio 2017 ESERCIZIO 1 Un transistore n + pn + (N Abase = 10 16 cm 3, W = 4 µm, S = 1 mm 2,µ n = 0.11 m 2 /Vs, τ n = 10 6 s) è polarizzato come in gura

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 16 Settembre 2014

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 16 Settembre 2014 DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 16 Settembre 2014 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore n + pn (N A = N D = 10 16 cm 3, µ n = 0.1 m 2 /Vs, µ p = 0.04 m 2 /Vs, τ n = τ p = 10 6 s, = 3 µm, S=1 mm 2 ), è polarizzato

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 25 Luglio 2018

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 25 Luglio 2018 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 25 Luglio 2018 ESERCIZIO 1 Nel circuito in gura, il diodo p + n a destra è a base lunga con N D = 10 16 cm 3, S = 10 cm 2. Il diodo p + n a sinistra ha N D

Dettagli

ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore bipolare npn (W met = 3 µm, N Abase = 10 16, N Dcollettore = , µ n = 0.12 m 2 /Vs, µ p = 0.

ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore bipolare npn (W met = 3 µm, N Abase = 10 16, N Dcollettore = , µ n = 0.12 m 2 /Vs, µ p = 0. DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 6 Giugno 2013 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore bipolare npn (W met = 3 µm, N Abase = 10 16, N Dcollettore = 2 10 15, µ n = 0.12 m 2 /Vs, µ p = 0.045 m 2 /Vs, τ n = τ p =

Dettagli

ESERCIZIO 3 Nel circuito in gura, il transistore bipolare è un n + pn +, con N A = cm 3, τ n = 10 6 s, µ n = 0.09 m 2 /Vs, S = 1 mm 2.

ESERCIZIO 3 Nel circuito in gura, il transistore bipolare è un n + pn +, con N A = cm 3, τ n = 10 6 s, µ n = 0.09 m 2 /Vs, S = 1 mm 2. PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 16 Gennaio 2019 ESERCIZIO 1 Un transistore bipolare n + pn (N Abase = 10 16 cm 3, N Dcollettore = 2 10 16 cm 3, τ n = 10 6 s, µ n = 0.1 m 2 /Vs, S=1 mm 2 )

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 12 Giugno 2019

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 12 Giugno 2019 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 12 Giugno 2019 ESERCIZIO 1 In gura è rappresentato, a sinistra, un dispositivo costituito da una giunzione p + n e da un contatto metallico sulla parte n. Per

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 7 Gennaio 2013

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 7 Gennaio 2013 DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 7 Gennaio 013 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un condensatore MOS è realizzato su substrato p, N A = 10 16 cm 3, t ox = 50 nm. A metà dell ossido (a t ox /) viene introdotto uno strato

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 4 Giugno 2012

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 4 Giugno 2012 DE e DTE: PROA SCRITTA DEL 4 Giugno 2012 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Una giunzione pn (N A = N D = 10 16 cm 3, τ n = τ p = 10 6 s, µ n = 1000 cm 2 /s, µ p = 450 cm 2 /s, S = 1 mm 2 ) è polarizzata con = 0.5.

Dettagli

ESERCIZIO 1 Il transistore in gura è un n + pn +, con W = 3 µm, N Abase = cm 3,

ESERCIZIO 1 Il transistore in gura è un n + pn +, con W = 3 µm, N Abase = cm 3, PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 8 Settembre 2016 ESERCIZIO 1 Il transistore in gura è un n + pn +, con W = 3 µm, N Abase = 10 16 cm 3, µ n = 0.1 m 2 /V s, τ n = 10 6 s, S = 1 mm 2. Trascurare

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 8 Febbraio 2012

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 8 Febbraio 2012 DE e DTE: PROA SCRITTA DEL 8 Febbraio 01 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Una struttura n-mos ( = 10 16 cm 3, t ox = 30 nm) è realizzata con un processo polysilicon gate n +. La struttura è illuminata con luce rossa

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 10 Settembre 2012

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 10 Settembre 2012 DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 10 Settembre 2012 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Una giunzione pn è polarizzata con V = 0.5 V. I dati della giunzione sono: N D = 10 16 cm 3, N A = 10 15 cm 3, µ n = 1100 cm 2 /Vs, µ

Dettagli

1) Il lato n è lungo (1 mm), mentre quello p è sicuramente corto (3 µm). Calcoliamo la regione di svuotamento per V = 0.5 V: = V.

1) Il lato n è lungo (1 mm), mentre quello p è sicuramente corto (3 µm). Calcoliamo la regione di svuotamento per V = 0.5 V: = V. ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Una giunzione pn è caratterizzata da (W p e W n distanze tra il piano della giunzione e rispettivamente contatto p ed n): S = 1 mm, N D = 10 16 cm 3, W n = 1 mm, N A = 10 15 cm 3,

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 23 Giugno 2012

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 23 Giugno 2012 DE e DTE: PROA SCRITTA DEL 23 Giugno 2012 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore bipolare npn (N D emettitore = 10 16 cm 3, N A base = 10 16 cm 3, N D collettore = 10 15 cm 3, τ n = τ p = 10 6 s, µ n = 1000

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 9 Gennaio 2012

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 9 Gennaio 2012 DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 9 Gennaio 01 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore n-mos (N A = 10 16 cm 3, µ n = 800 cm /Vs nel canale, W = L = 5 µm, t ox = 50 nm), realizzato con un processo polysilicon gate,

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 5 febbraio ESERCIZIO 1 (DTE) 1) Descrivere i processi e disegnare le maschere necessarie alla realizzazione

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 5 febbraio ESERCIZIO 1 (DTE) 1) Descrivere i processi e disegnare le maschere necessarie alla realizzazione DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 5 febbraio 011 ESERCIZIO 1 (DTE) 1) Descrivere i processi e disegnare le maschere necessarie alla realizzazione del dispositivo di cui nella figura è mostrata la sezione; la

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 16 Luglio 2012

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 16 Luglio 2012 000000000 111111111 000000000 111111111 DE e DTE: PROA SCRITTA DEL 16 Luglio 01 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Nella figura è mostrato lo schema di massima di un transistore n-mos (condensatore MOS ideale), con

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 22 Gennaio 2012

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 22 Gennaio 2012 DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL Gennaio 01 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un processo per la realizzazione di transistori n-mos è caratterizzato da: N A = 10 16 cm 3, µ n canale = 800 cm /Vs, µ n bulk = 1000 cm /Vs,

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 26 Gennaio 2015

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 26 Gennaio 2015 DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 26 Gennaio 2015 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore bipolare n + pn con N Abase = N Dcollettore = 10 16 cm 3, µ n = 0.09 m 2 /Vs, µ p = 0.035 m 2 /Vs, τ n = τ p = 10 6 s, S=1

Dettagli

Esercizio U3.1 - Tensione di soglia del MOSFET a canale n

Esercizio U3.1 - Tensione di soglia del MOSFET a canale n Esercizio U3. - Tensione di soglia del MOSFET a canale n Si ricavi dettagliatamente l espressione per la tensione di soglia di un MOSFET ad arricchimento a canale p e successivamente la si calcoli nel

Dettagli

Dispositivi e Tecnologie Elettroniche. Esercitazione Transistore MOS

Dispositivi e Tecnologie Elettroniche. Esercitazione Transistore MOS Dispositivi e Tecnologie Elettroniche Esercitazione Transistore MOS Esercizio 1: testo Si consideri un sistema MOS costituito da un substrato di Si con drogaggio N A = 10 16 cm 3, uno strato di ossido

Dettagli

Esercizio U2.1 - Giunzione non brusca

Esercizio U2.1 - Giunzione non brusca Esercizio U2.1 - Giunzione non brusca Si consideri una giunzione p + -n con drogaggio uniforme nel lato p (N A = 10 19 cm 3 ) e giunzione metallurgica situata in x = 0. Il drogaggio del lato n, definito

Dettagli

Transistori MOS. Ing. Ivan Blunno 21 aprile 2005

Transistori MOS. Ing. Ivan Blunno 21 aprile 2005 Transistori MOS Ing. Ivan Blunno 1 aprile 005 1 Introduzione In questa dispensa verranno presentati i transistor MOS (Metal Oxide Semiconductor) di tipo N e P dal punto di vista del loro funzionamento

Dettagli

Il Sistema Metallo Ossido Semiconduttore (MOS)

Il Sistema Metallo Ossido Semiconduttore (MOS) Il Sistema Metallo Ossido Semiconduttore (MOS) E una struttura simile ad un condensatore, con queste differenze: A polarizzazione nulla la concentrazione dei portatori nel semiconduttore è assai minore

Dettagli

Elettronica II La giunzione p-n: calcolo della relazione tensione-corrente p. 2

Elettronica II La giunzione p-n: calcolo della relazione tensione-corrente p. 2 Elettronica II La giunzione p-n: calcolo della relazione tensione-corrente Valentino Liberali Dipartimento di Tecnologie dell Informazione Università di Milano, 26013 Crema e-mail: liberali@dti.unimi.it

Dettagli

ESERCIZIO 1. Dati due diodi a giunzione pn aventi le seguenti caratteristiche:

ESERCIZIO 1. Dati due diodi a giunzione pn aventi le seguenti caratteristiche: ESERCIZIO 1 Dati due diodi a giunzione pn aventi le seguenti caratteristiche: DIODO A: Si, 10 18 cm 3,N D 10 15 cm 3 DIODO B: Ge, 10 18 cm 3,N D 10 15 cm 3 Valutare, giustificando quantitativamente le

Dettagli

Fondamenti di Elettronica, Sez.3

Fondamenti di Elettronica, Sez.3 Fondamenti di Elettronica, Sez.3 Alessandra Flammini alessandra.flammini@unibs.it Ufficio 24 Dip. Ingegneria dell Informazione 030-3715627 Lunedì 16:30-18:30 Fondamenti di elettronica, A. Flammini, AA2018-2019

Dettagli

Struttura del condensatore MOS

Struttura del condensatore MOS Struttura del condensatore MOS Primo elettrodo - Gate: realizzato con materiali a bassa resistività come metallo o silicio policristallino Secondo elettrodo - Substrato o Body: semiconduttore di tipo n

Dettagli

Dispositivi e Tecnologie Elettroniche. Il transistore MOS

Dispositivi e Tecnologie Elettroniche. Il transistore MOS Dispositivi e Tecnologie Elettroniche Il transistore MOS Il transistore MOS La struttura MOS a due terminali vista può venire utilizzata per costruire un condensatore integrato È la struttura base del

Dettagli

Dispositivi e Tecnologie Elettroniche. Esercitazione Giunzione pn

Dispositivi e Tecnologie Elettroniche. Esercitazione Giunzione pn Dispositivi e Tecnologie Elettroniche Esercitazione Giunzione pn Esercizio 1: testo Si consideri una giunzione brusca e simmetrica con drogaggio N A N D 10 17 cm 3 sezione trasversale A 0.5 mm 2 e lati

Dettagli

POLITECNICO DI MILANO

POLITECNICO DI MILANO POLITECNICO DI MILANO www.polimi.it ELETTRONICA per ingegneria BIOMEDICA prof. Alberto TOSI Sommario Transistore MOSFET Struttura Equazioni caratteristiche Curve caratteristiche Funzionamento come amplificatore

Dettagli

Dispositivi e Tecnologie Elettroniche. Il transistore bipolare

Dispositivi e Tecnologie Elettroniche. Il transistore bipolare Dispositivi e Tecnologie Elettroniche l transistore bipolare Struttura di principio l transistore bipolare è fondamentalmente composto da due giunzioni pn, realizzate sul medesimo substrato a formare una

Dettagli

Il MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor).

Il MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor). Il MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor). a figura 1 mostra la sezione di una porzione di fetta di silicio in corrispondenza di un dispositio MOSFET a canale n. In condizioni di funzionamento

Dettagli

Semiconduttori intrinseci

Semiconduttori intrinseci Semiconduttori intrinseci Rappresentazione bidimensionale di un cristallo di silicio a 0 K Rappresentazione bidimensionale di un cristallo di silicio a temperatura ambiente (300 K) In equilibrio termodinamico,

Dettagli

Esercizio : calcolo della conducibilita in un conduttore metallico.

Esercizio : calcolo della conducibilita in un conduttore metallico. Esercizio : calcolo della conducibilita in un conduttore metallico. Si consideri una striscia di metallo in un circuito integrato, con dimensioni:lunghezza L =.8 [mm], Area della sezione A = 4 [µm²] (micrometri

Dettagli

ESERCIZIO 1. Soluzione

ESERCIZIO 1. Soluzione ESERCIZIO 1 Soluzione Per stabilire quanto deve valere Rx, dato che ho la tensione massima che deve cadere ai suoi capi (20), è sufficiente calcolare quanto vale la corrente che la attraversa. Questa corrente

Dettagli

Elettronica II La giunzione p-n: calcolo del potenziale di giunzione p. 2

Elettronica II La giunzione p-n: calcolo del potenziale di giunzione p. 2 Elettronica II La giunzione pn: calcolo del potenziale di giunzione Valentino Liberali Dipartimento di Tecnologie dell Informazione Università di Milano, 26013 Crema email: liberali@dti.unimi.it http://www.dti.unimi.it/

Dettagli

Esercizio 1.3 Il percorso con maggiore tempo di propagazione è quello del segnale A

Esercizio 1.3 Il percorso con maggiore tempo di propagazione è quello del segnale A Copyright 006 he McGraw-Hill Companies srl SOLUZIONI DI ESERCIZI - Elettronica Digitale III ed. Capitolo Esercizio. V OH 5 V, V OL 0.5 V; NM H V OH - V IH V; NM L V IH - V IL.5 V. Esercizio.3 Il percorso

Dettagli

Ricavo della formula

Ricavo della formula Dispositivi e Circuiti Elettronici Ricavo della formula E F i E F = k B T ln N A n i Si consideri la relazione di Shockey: ( ) EFi E F p = n i exp k B T Si osservi anche che per x = il semiconduttore è

Dettagli

V [V]

V [V] ESERCIZIO 1 Si consideri il seguente grafico, corrispondente ad una caratteristica di un diodo pn non ideale. Si valuti: La corrente di saturazione inversa Il coefficiente di idealità Dire inoltre se questa

Dettagli

Dispositivi e Tecnologie Elettroniche. Il sistema MOS

Dispositivi e Tecnologie Elettroniche. Il sistema MOS Dispositivi e Tecnologie Elettroniche Il sistema MOS l ossido è SiO 2 l ossido è molto sottile ( 40 Å) il metallo è sostituito con silicio policristallino drograto n + (poly) Dispositivi e Tecnologie Elettroniche

Dettagli

Il transistore bipolare a giunzione (BJT)

Il transistore bipolare a giunzione (BJT) Il transistore bipolare a giunzione (BJT) Il funzionamento da transistore, cioè l'interazione fra le due giunzioni pn connesse back to back, è dovuto allo spessore ridotto dell'area di base (tipicamente

Dettagli

3 B aut TPSEE 4 TEST FILA 1 3 apr Q1 BC Volts. VALUTAZIONE di COGNOME :. Nome :

3 B aut TPSEE 4 TEST FILA 1 3 apr Q1 BC Volts. VALUTAZIONE di COGNOME :. Nome : 3 B aut TPSEE 4 TEST FILA 1 3 apr 2013 1. Dato il seguente circuito e i valori di tensioni e correnti, determinare : a) La regione di funzionamento b) h FE, I E, V CB c) R B, R C d) cosa bisogna fare per

Dettagli

I dispositivi elettronici. Dispense del corso ELETTRONICA L

I dispositivi elettronici. Dispense del corso ELETTRONICA L I dispositivi elettronici Dispense del corso ELETTRONICA L Sommario I semiconduttori La giunzione pn Il transistor MOS Cenni sul principio di funzionamento Modellizzazione Fenomeni reattivi parassiti Top-down

Dettagli

ESERCIZIO 1. γ = 1 + D EN B W D B N E L E

ESERCIZIO 1. γ = 1 + D EN B W D B N E L E ESERCIZIO 1 In un un bjt npn in cui il fattore di trasporto in base è pari a 0.9995, l efficienza di emettitore è pari a 0.99938, è noto che la tensione di breakdown per valanga ha modulo pari a BV CE0

Dettagli

Dispositivi unipolari Il contatto metallo-semiconduttore Il transistor JFET Il transistor MESFET Il diodo MOS Il transistor MOSFET

Dispositivi unipolari Il contatto metallo-semiconduttore Il transistor JFET Il transistor MESFET Il diodo MOS Il transistor MOSFET Dispositivi unipolari Il contatto metallo-semiconduttore Il transistor JFET Il transistor MESFET Il diodo MOS Il transistor MOSFET 1 Contatti metallo semiconduttore (1) La deposizione di uno strato metallico

Dettagli

Anche questo transistor è unipolare. Il suo nome è un acronimo per Metal Oxide

Anche questo transistor è unipolare. Il suo nome è un acronimo per Metal Oxide Il transistor MOSFET MOSFET enhancement mode Anche questo transistor è unipolare. Il suo nome è un acronimo per Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor. La struttura di principio del dispositivo

Dettagli

Ñ 3 µ n = 0.1 Ñ 2»Î τ n = 10 6 µ p = Ñ 2»Î τ p = 10 6 S = 1

Ñ 3 µ n = 0.1 Ñ 2»Î τ n = 10 6 µ p = Ñ 2»Î τ p = 10 6 S = 1 Ì ÈÊÇÎ Ë ÊÁÌÌ Ä ¾ ÒÒ Ó ¾¼½ Ë Ê Á ÁÇ ½ Ì µ Ä ÙÒÞ ÓÒ n + p Ò ÙÖ N A = 10 16 Ñ 3 µ n = 0.1 Ñ 2»Î τ n = 10 6 µ p = 0.045 Ñ 2»Î τ p = 10 6 S = 1 ÑÑ 2 µ Ø ÒÞ ÙÒÞ ÓÒ ¹ÓÒØ ØØÓ a = 30 µñ ÐÐÙÑ Ò Ø ÙÒ ÓÖÑ Ñ ÒØ ÓÒ

Dettagli

Il BJT Bipolar Junction Transistor: comportamento statico

Il BJT Bipolar Junction Transistor: comportamento statico Dispositivi Elettronici La il transistore giunzione bipolare PN (BJ) Il BJ Bipolar Junction ransistor: comportamento statico E costituito da due giunzioni PN polarizzate in modo diretto od inverso: Interdizione:

Dettagli

3- CENNI SUI PRINCIPALI DISPOSITIVI BASATI SULLE GIUNZIONI p-n

3- CENNI SUI PRINCIPALI DISPOSITIVI BASATI SULLE GIUNZIONI p-n 1 3- CENNI SUI PRINCIPALI DISPOSITIVI BASATI SULLE GIUNZIONI p-n Il diodo come raddrizzatore Un semiconduttore contenente una giunzione p-n, come elemento di un circuito elettronico si chiama diodo e viene

Dettagli

Indice. 1. Fisica dei semiconduttori La giunzione pn...49

Indice. 1. Fisica dei semiconduttori La giunzione pn...49 i Indice 1. Fisica dei semiconduttori...1 1.1 La carica elettrica...1 1.2 Tensione...2 1.3 Corrente...5 1.4 Legge di Ohm...6 1.5 Isolanti e conduttori...12 1.6 Semiconduttori...15 1.7 Elettroni nei semiconduttori...18

Dettagli

TRANSISTOR BIPOLARE A GIUNZIONE ( BJT ) [ing. R. STORACE]

TRANSISTOR BIPOLARE A GIUNZIONE ( BJT ) [ing. R. STORACE] TRANSISTOR BIPOLARE A GIUNZIONE ( BJT ) [ing. R. STORACE] 1. Che cos'è? E' un componente con 3 terminali, chiamati EMETTITORE, BASE,COLLETTORE, che può funzionare in modi diversi a seconda di come è configurato,

Dettagli

Transistor ad Effetto Campo: FET

Transistor ad Effetto Campo: FET Transistor ad Effetto Campo: FET I transistor ad effetto campo sono basati sul controllo della corrente tra source e drain modulando la larghezza delle zone di svuotamento (e quindi la larghezza del canale)

Dettagli

Sommario. Come funziona il Diodo? Giunzione PN a circuito aperto Giunzione PN: polarizzazione diretta Giunzione PN: polarizzazione inversa

Sommario. Come funziona il Diodo? Giunzione PN a circuito aperto Giunzione PN: polarizzazione diretta Giunzione PN: polarizzazione inversa l Diodo Sommario Cos è il Diodo? Concetti di base sulla fisica dei Semiconduttori Silicio ntrinseco Corrente di Deriva e Corrente di Diffusione Silicio Drogato P o N Giunzione PN Come funziona il Diodo?

Dettagli

il diodo a giunzione transistori ad effetto di campo (FETs) il transistore bipolare (BJT)

il diodo a giunzione transistori ad effetto di campo (FETs) il transistore bipolare (BJT) ontenuti del corso Parte : ntroduzione e concetti fondamentali richiami di teoria dei circuiti la simulazione circuitale con P elementi di lettronica dello stato solido Parte : Dispositivi lettronici il

Dettagli

ESERCIZIO 1. Soluzione. Per risolvere il problema utilizzo il modello di Ebers-Moll, grazie al quale potrò calcolare L E, W, L C, infatti so che

ESERCIZIO 1. Soluzione. Per risolvere il problema utilizzo il modello di Ebers-Moll, grazie al quale potrò calcolare L E, W, L C, infatti so che ESERCIZIO Su un transistor BJT pnp caratterizzato da N E = 0 8 cm 3 N B = 0 6 cm 3 N C = 0 5 cm 3 A = mm 2 vengono effettuate le seguenti misure: Tensione V CB negativa, emettitore aperto: I C = 0nA Tensione

Dettagli

CENNI SU ALCUNI DISPOSITIVI ELETTRONICI A STATO SOLIDO

CENNI SU ALCUNI DISPOSITIVI ELETTRONICI A STATO SOLIDO 1 CENNI SU ALCUNI DISPOSITIVI ELETTRONICI A STATO SOLIDO Il diodo come raddrizzatore Un semiconduttore contenente una giunzione p-n, come elemento di un circuito elettronico si chiama diodo e viene indicato

Dettagli

AMPLIFICATORI INVERTENTI A SINGOLO TRANSISTORE

AMPLIFICATORI INVERTENTI A SINGOLO TRANSISTORE configurazione CE: AMPLIFICATORI INVERTENTI A SINGOLO TRANSISTORE configurazione CS: G. Martines 1 ANALISI IN CONTINUA Circuito di polarizzazione a quattro resistenze. NOTE: I parametri del modello a piccolo

Dettagli

Trasporto in Semiconduttori e Metalli - Esercizi con soluzioni

Trasporto in Semiconduttori e Metalli - Esercizi con soluzioni Trasporto in Semiconduttori e Metalli - Esercizi con soluzioni Fisica della Materia Condensata Dipartimento di Matematica e Fisica Università degli Studi Roma Tre A.A. 2016/2017 Trasporto in Semiconduttori

Dettagli

Tensione di soglia Q C. x d. x d

Tensione di soglia Q C. x d. x d ensione di soglia In presenza di cariche nell ossido e/o di φms 0, la tensione di soglia viene odificata a causa del contributo di FB, che rappresenta la tensione che occorre applicare al gate per portare

Dettagli

Transistore bipolare a giunzione (BJT)

Transistore bipolare a giunzione (BJT) ransistore bipolare a giunzione (J) Parte 1 www.die.ing.unibo.it/pers/mastri/didattica.htm (versione del 22-5-2012) ransistore bipolare a giunzione (J) l transistore bipolare a giunzione è un dispositivo

Dettagli

Cross section and top view

Cross section and top view The nmos Transistor Polysilicon Aluminum nmosfet VBS 0 and VBD 0 VB = 0 Cross section and top view Polysilicon gate Source n + L W Drain n + Bulk p+ L Top view Gate-bulk overlap t ox Gate oxide n + L n

Dettagli

Esercitazione n 2: Circuiti di polarizzazione (2/2)

Esercitazione n 2: Circuiti di polarizzazione (2/2) Esercitazione n 2: Circuiti di polarizzazione (2/2) 1) Per il circuito di in Fig. 1 dimensionare R in modo tale che la corrente di collettore di Q 1 sia 5 ma. Siano noti: V CC = 15 V; β = 150; Q1 = Q2

Dettagli

Elettronica Inverter con transistore MOS; tecnologia CMOS e porte logiche combinatorie CMOS

Elettronica Inverter con transistore MOS; tecnologia CMOS e porte logiche combinatorie CMOS Elettronica Inverter con transistore MOS; tecnologia CMOS e porte logiche combinatorie CMOS Valentino Liberali Dipartimento di Fisica Università degli Studi di Milano valentino.liberali@unimi.it Elettronica

Dettagli

Regione di svuotamento: effetti polarizzazione

Regione di svuotamento: effetti polarizzazione Regione di svuotamento: effetti polarizzazione L applicazione di una tensione modifica il potenziale interno. Assumendo che tutta la tensione risulti applicata alla regione di svuotamento basta sostituire

Dettagli

Dispositivi elettronici. Effect

Dispositivi elettronici. Effect ispositivi elettronici Metal-Oxide-emiconductoremiconductor Field Effect Transistor (MOFET) ommario Come è fatto un MOFET a canale n Principi di funzionamento Canale di inversione Calcolo di I vs V Curve

Dettagli

DIODO. La freccia del simbolo indica il verso della corrente.

DIODO. La freccia del simbolo indica il verso della corrente. DIODO Si dice diodo un componente a due morsetti al cui interno vi è una giunzione P-N. Il terminale del diodo collegato alla zona P si dice anodo; il terminale collegato alla zona N si dice catodo. Il

Dettagli

r> 0 p< 0 stabile; r< 0 p> 0 instabile

r> 0 p< 0 stabile; r< 0 p> 0 instabile Circuiti dinamici del primo ordine I i V p. s. r C v V( s) 1 1 scv( s) + = 0; s+ V( s) = 0; p= r rc rc r> 0 p< 0 stabile; r< 0 p> 0 instabile 101 Compito a casa: dimostrare che il seguente circuito ha

Dettagli

ESERCIZIO 5 1) VALUTAZIONE DELLE CAPACITÁ PARASSITE DI UN INVERTER CMOS:

ESERCIZIO 5 1) VALUTAZIONE DELLE CAPACITÁ PARASSITE DI UN INVERTER CMOS: ESERIZIO 5 Si valutino le capacità parassite al nodo di uscita dovute ai transistori di un inverter MOS, e si verifichi l accuratezza dei risultati confrontando il ritardo di propagazione teorico e quello

Dettagli

Regolazione della potenza: lineare vs. switching

Regolazione della potenza: lineare vs. switching Regolazione della potenza: lineare vs. switching TRANSISTOR DI POTENZA Caratteristiche desiderate: - bassa resistenza R on - elevata frequenza di commutazione - elevata impedenza di ingresso - stabilità

Dettagli

Corso di ELETTRONICA 1 (Elettronici N.O.) 17/06/2003

Corso di ELETTRONICA 1 (Elettronici N.O.) 17/06/2003 Corso di ELETTRONICA 1 (Elettronici N.O.) 17/06/2003 Si analizzi l amplificatore mostrato in figura, determinando: 1. il valore del guadagno di tensione a frequenze intermedie; 2. le frequenze di taglio

Dettagli

Il diodo come raddrizzatore (1)

Il diodo come raddrizzatore (1) Il diodo come raddrizzatore () 220 V rms 50 Hz Come trasformare una tensione alternata in una continua? Il diodo come raddrizzatore (2) 0 Vγ La rettificazione a semionda Il diodo come raddrizzatore (3)

Dettagli

Dispositivi elettronici. Transistor (MOSFET)

Dispositivi elettronici. Transistor (MOSFET) ispositivi elettronici Metal-Oxide- emiconductor Field Effect Transistor (MOFET) ommario Come è fatto un MOFET a canale n Principi di funzionamento Canale di inversione Calcolo di I vs V Curve I vs V e

Dettagli

Formulario di CIRCUITI ELETTRONICI ANALOGICI L-A

Formulario di CIRCUITI ELETTRONICI ANALOGICI L-A Formulario di CIRCUITI ELETTRONICI ANALOGICI L-A Gennaio - Marzo 2009 Identità ed equazioni relative all elettronica analogica tratti dalle lezioni del corso di Circuiti Elettronici Analogici L-A alla

Dettagli

slides per cortesia di Prof. B. Bertucci

slides per cortesia di Prof. B. Bertucci slides per cortesia di Prof. B. Bertucci Giunzione p-n in equilibrio: Densità di portatori maggiori maggioritari/ minoritari dai due lati della giunzione (lontano dalla zona di contatto): Nella zona di

Dettagli

Ñ 3 µ n = 0.1 Ñ 2»Î τ n = 10 6 µ p = Ñ 2»Î τ p = 10 6 S = 1. p+ n

Ñ 3 µ n = 0.1 Ñ 2»Î τ n = 10 6 µ p = Ñ 2»Î τ p = 10 6 S = 1. p+ n Ì ÈÊÇÎ Ë ÊÁÌÌ Ä ÒÒ Ó ¾¼½ Ë Ê Á ÁÇ ½ Ì µ Ä ÙÒÞ ÓÒ p + n Ò ÙÖ N D = 10 16 Ñ 3 µ n = 0.1 Ñ 2»Î τ n = 10 6 µ p = 0.045 Ñ 2»Î τ p = 10 6 S = 1 ÑÑ 2 ÐÙÒ µ ÔÓÐ Ö ÞÞ Ø Ò Ö ØØ ÓÒ = 0.3 κ ½µ Ø ÖÑ Ò Ö Ð ÓÖÖ ÒØ Ò

Dettagli

Polarizzazione Diretta (1)

Polarizzazione Diretta (1) Polarizzazione Diretta () E Con la polarizzazione diretta della giunzione, la barriera di potenziale si riduce aumenta la mobilità dei portatori maggioritari e si riduce quella dei portatori minoritari

Dettagli