Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS

Dimensione: px
Iniziare la visualizzazioe della pagina:

Download "Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS"

Transcript

1 Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS Valentino Liberali Dipartimento di Tecnologie dell Informazione Università di Milano, Crema liberali Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS p. 1 esistenza equivalente del MOS MOS = r Dalla conduttanza del MOS in triodo g = i D v DS vds =0 = β (v GS V th ) si calcola la resistenza equivalente: con r = 1 g = 1 β (v GS V th ) β = µε ox t ox W L Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS p. 2 1

2 Capacità di drain SOUCE GATE W DAIN t ox L Capacità tra drain e substrato in un transistore MOS: C D = C j W L D C j = capacità per unità di area della giunzione polarizzata inversamente; L D = lunghezza della regione di drain. Per tenere conto degli effetti di bordo, si aggiunge anche un termine proporzionale al perimetro della regione di drain. Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS p. 3 Capacità di gate SOUCE GATE W DAIN t ox L Capacità del gate di un transistore MOS: C = ε 0 ε SiO2 WL t ox ε 0 = F/m; ε SiO2 = 3.9 (permettività elettrica relativa dell ossido di silicio). Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS p. 4 2

3 Elementi parassiti delle interconnessioni Idealmente, le linee di interconnessione dovrebbero essere dei cortocircuiti; tuttavia qualsiasi elemento di interconnessione è contemporaneamente resistivo, capacitivo e induttivo il modello è una rete LC a parametri distribuiti. Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS p. 5 esistenza delle interconnessioni t w l esistenza di una linea di interconnessione: = l σwt l = lunghezza, w = larghezza, t = spessore della linea; σ = conducibilità del materiale: per il rame (Cu): σ Cu = S/m per l alluminio (Al): σ Al = S/m Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS p. 6 3

4 Capacità delle interconnessioni (1/2) w t d ground plane Capacità di un conduttore sopra ad un piano di massa (trascurando gli effetti dovuti al bordo): C = ε 0 ε r lw d l = lunghezza; ε 0 = F/m; ε r = permettività elettrica relativa dell isolante. Per ridurre la capacità: aumentare d o diminuire l area lw Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS p. 7 Capacità delle interconnessioni (2/2) Capacità tra più conduttori: C 10 C 12 C 23 C 20 C 30 0 (substrate) La riduzione della lunghezza l permette di ridurre e TUTTE le C! Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS p. 8 4

5 ete C distribuita (1/8) Una linea di interconnessione lunga può essere modellizzata come serie di elementi resistivi e capacitivi tutti uguali, aventi lunghezza dx: = r dx è la resistenza; r è la resistenza per unità di lunghezza C = cdx è la capacità; c è la capacità per unità di lunghezza i j 1 i j v j 1 v j v j +1 C C C Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS p. 9 ete C distribuita (2/8) i j 1 i j v j 1 v j v j +1 C C C Nel j-esimo nodo, la tensione è v j e le correnti sono legate dalla legge di Kirchhoff: C dv j dt = v j 1 v j v j v j+1 Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS p. 10 5

6 ete C distribuita (3/8) Dalla relazione: si ricava: cdx dv j dt C dv j dt = v j 1 v j r dx = v j 1 v j v j v j+1 r dx v j v j+1 ( = 1 dv r dx dv ) j 1 dx j Nell ultimo passaggio si è usato il limite per dx 0: v j 1 v j = dv dx dx e v j v j+1 = dv j 1 dx dx j Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS p. 11 ete C distribuita (4/8) Moltiplicando per r, si ottiene: rc dv dv j dx j 1 dv dx = dt dx e per dx 0, si ottiene l equazione differenziale: j rc v(x,t) t = 2 v(x,t) x 2 con v = v(t,x) (la tensione è funzione del tempo t e della distanza x. Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS p. 12 6

7 ete C a parametri distribuiti (5/8) rc v(x,t) t = 2 v(x,t) x 2 è nota come equazione del calore (fu studiata da Fourier per descrivere la propagazione del calore in un solido). Per risolverla occorre conoscere: la condizione iniziale al tempo t = 0 in ogni punto della linea: v(x,0), x l andamento del segnale applicato all estremità x = 0: v(0,t), t La soluzione è funzione della quantità adimensionale x rc 2 t Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS p. 13 ete C distribuita (6/8) Se la condizione iniziale è v(0,x) = 0 per x, e il segnale in x = 0 è un gradino con ampiezza da 0 a V A applicato all istante t = 0, allora la soluzione è: ( ) x rc v(t,x) = V A erf 2 t dove con erf si indica la funzione degli errori, definita come: erf(z) = 2 z e u2 du π 0 Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS p. 14 7

8 ete C a parametri distribuiti (7/8) x = L x = 2L x = 3L x = 4L x = 5L Il ritardo di propagazione è proporzionale al quadrato della distanza dal generatore di segnale: t d (x) 0.7 rc 2 x2 Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS p. 15 ete C distribuita (8/8) Il ritardo della rete è dato dall istante t d per cui la tensione raggiunge il valore v = 1 2 V A; esprimendo t d in funzione della distanza x lungo la linea di interconnessione otteniamo: t d (x) 0.7 rc 2 x2 Quindi: il ritardo lungo una linea a parametri distribuiti aumenta in maniera proporzionale al QUADATO della lunghezza della linea! Elettronica dei Sistemi Digitali Calcolo degli elementi parassiti in tecnologia CMOS p. 16 8

Elettronica II Grandezze elettriche microscopiche (parte 1) p. 2

Elettronica II Grandezze elettriche microscopiche (parte 1) p. 2 Elettronica II Grandezze elettriche microscopiche (parte 1) Valentino Liberali Dipartimento di Tecnologie dell Informazione Università di Milano, 26013 Crema e-mail: liberali@dti.unimi.it http://www.dti.unimi.it/

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 8 Giugno 2015

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 8 Giugno 2015 DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 8 Giugno 2015 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Il transistore in gura è un n + pn + con base = 10 16 cm 3, τ n = 1 µs, µ n = 0.1 m 2 /Vs, S = 1mm 2. La resistenza R C = 1 kω, e V CC = 12

Dettagli

Elettronica dei Sistemi Digitali Le porte logiche CMOS

Elettronica dei Sistemi Digitali Le porte logiche CMOS Elettronica dei Sistemi Digitali Le porte logiche CMOS Valentino Liberali Dipartimento di Tecnologie dell Informazione Università di Milano, 26013 Crema e-mail: liberali@dti.unimi.it http://www.dti.unimi.it/

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 4 Giugno 2012

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 4 Giugno 2012 DE e DTE: PROA SCRITTA DEL 4 Giugno 2012 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Una giunzione pn (N A = N D = 10 16 cm 3, τ n = τ p = 10 6 s, µ n = 1000 cm 2 /s, µ p = 450 cm 2 /s, S = 1 mm 2 ) è polarizzata con = 0.5.

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 8 Febbraio 2012

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 8 Febbraio 2012 DE e DTE: PROA SCRITTA DEL 8 Febbraio 01 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Una struttura n-mos ( = 10 16 cm 3, t ox = 30 nm) è realizzata con un processo polysilicon gate n +. La struttura è illuminata con luce rossa

Dettagli

Struttura del condensatore MOS

Struttura del condensatore MOS Struttura del condensatore MOS Primo elettrodo - Gate: realizzato con materiali a bassa resistività come metallo o silicio policristallino Secondo elettrodo - Substrato o Body: semiconduttore di tipo n

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 10 Settembre 2012

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 10 Settembre 2012 DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 10 Settembre 2012 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Una giunzione pn è polarizzata con V = 0.5 V. I dati della giunzione sono: N D = 10 16 cm 3, N A = 10 15 cm 3, µ n = 1100 cm 2 /Vs, µ

Dettagli

Esercizio U3.1 - Tensione di soglia del MOSFET a canale n

Esercizio U3.1 - Tensione di soglia del MOSFET a canale n Esercizio U3. - Tensione di soglia del MOSFET a canale n Si ricavi dettagliatamente l espressione per la tensione di soglia di un MOSFET ad arricchimento a canale p e successivamente la si calcoli nel

Dettagli

Dispositivi e Tecnologie Elettroniche. Esercitazione Transistore MOS

Dispositivi e Tecnologie Elettroniche. Esercitazione Transistore MOS Dispositivi e Tecnologie Elettroniche Esercitazione Transistore MOS Esercizio 1: testo Si consideri un sistema MOS costituito da un substrato di Si con drogaggio N A = 10 16 cm 3, uno strato di ossido

Dettagli

Elettronica II Modello per piccoli segnali del diodo a giunzione p. 2

Elettronica II Modello per piccoli segnali del diodo a giunzione p. 2 Elettronica II Modello per piccoli segnali del diodo a giunzione Valentino Liberali ipartimento di Tecnologie dell Informazione Università di Milano, 2603 Crema e-mail: liberali@dti.unimi.it http://www.dti.unimi.it/

Dettagli

Elettronica II Modello del transistore bipolare a giunzione p. 2

Elettronica II Modello del transistore bipolare a giunzione p. 2 lettronica II Modello del transistore biolare a giunzione Valentino Liberali Diartimento di Tecnologie dell Informazione Università di Milano, 26013 rema e-mail: liberali@dti.unimi.it htt://www.dti.unimi.it/

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 12 Giugno 2019

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 12 Giugno 2019 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 12 Giugno 2019 ESERCIZIO 1 In gura è rappresentato, a sinistra, un dispositivo costituito da una giunzione p + n e da un contatto metallico sulla parte n. Per

Dettagli

ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore bipolare npn (W met = 3 µm, N Abase = 10 16, N Dcollettore = , µ n = 0.12 m 2 /Vs, µ p = 0.

ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore bipolare npn (W met = 3 µm, N Abase = 10 16, N Dcollettore = , µ n = 0.12 m 2 /Vs, µ p = 0. DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 6 Giugno 2013 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore bipolare npn (W met = 3 µm, N Abase = 10 16, N Dcollettore = 2 10 15, µ n = 0.12 m 2 /Vs, µ p = 0.045 m 2 /Vs, τ n = τ p =

Dettagli

ESERCIZIO 5 1) VALUTAZIONE DELLE CAPACITÁ PARASSITE DI UN INVERTER CMOS:

ESERCIZIO 5 1) VALUTAZIONE DELLE CAPACITÁ PARASSITE DI UN INVERTER CMOS: ESERIZIO 5 Si valutino le capacità parassite al nodo di uscita dovute ai transistori di un inverter MOS, e si verifichi l accuratezza dei risultati confrontando il ritardo di propagazione teorico e quello

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 3 Luglio 2019

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 3 Luglio 2019 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 3 Luglio 2019 ESERCIZIO 1 Un diodo p + n è a base corta: W = 4 µm, N D = 10 16 cm 3, µ n = 0.1 m 2 /Vs, µ p = 0.04 m 2 /Vs, τ p = τ n = 10 6 s, S=1 mm 2. 1)

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 7 Gennaio 2013

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 7 Gennaio 2013 DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 7 Gennaio 013 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un condensatore MOS è realizzato su substrato p, N A = 10 16 cm 3, t ox = 50 nm. A metà dell ossido (a t ox /) viene introdotto uno strato

Dettagli

Elettronica Inverter con transistore MOS; tecnologia CMOS e porte logiche combinatorie CMOS

Elettronica Inverter con transistore MOS; tecnologia CMOS e porte logiche combinatorie CMOS Elettronica Inverter con transistore MOS; tecnologia CMOS e porte logiche combinatorie CMOS Valentino Liberali Dipartimento di Fisica Università degli Studi di Milano valentino.liberali@unimi.it Elettronica

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 5 febbraio ESERCIZIO 1 (DTE) 1) Descrivere i processi e disegnare le maschere necessarie alla realizzazione

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 5 febbraio ESERCIZIO 1 (DTE) 1) Descrivere i processi e disegnare le maschere necessarie alla realizzazione DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 5 febbraio 011 ESERCIZIO 1 (DTE) 1) Descrivere i processi e disegnare le maschere necessarie alla realizzazione del dispositivo di cui nella figura è mostrata la sezione; la

Dettagli

Elettronica I Porte logiche CMOS

Elettronica I Porte logiche CMOS Elettronica I Porte logiche CMOS Valentino Liberali Dipartimento di Tecnologie dell Informazione Università di Milano, 26013 Crema e-mail: liberali@dti.unimi.it http://www.dti.unimi.it/ liberali Elettronica

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 13 Giugno 2018

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 13 Giugno 2018 POVA SCITTA di DISPOSITIVI ELETTONICI del 13 Giugno 2018 ESECIZIO 1 In gura è rappresentato un circuito, basato su un transistore bipolare n + pn +, = 2 kω. Per il transistore abbiamo N Abase = 10 16 cm

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 28 Gennaio 2016 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore bipolare n + pn (N Abase = cm 3, N Dcollettore = cm 3, µ

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 28 Gennaio 2016 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore bipolare n + pn (N Abase = cm 3, N Dcollettore = cm 3, µ DE e DTE: PROA SCRITTA DEL 28 Gennaio 2016 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore bipolare n + pn (N Abase = 10 16 cm 3, N Dcollettore = 10 15 cm 3, µ n = 0.1 m 2 /s, τ n = 10 6, S = 1 mm 2 ) è polarizzato

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 23 Luglio ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un diodo p + n a base lunga, con µ n = 1100 cm 2 /Vs, µ p = 200 cm 2 /Vs,

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 23 Luglio ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un diodo p + n a base lunga, con µ n = 1100 cm 2 /Vs, µ p = 200 cm 2 /Vs, DE e DTE: PROA SCRITTA DEL 23 Luglio 2015 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un diodo p + n a base lunga, con µ n = 1100 cm 2 /s, µ p = 200 cm 2 /s, τ n = τ p = 1 µs, N A = 10 19 cm 3, N D = 5 10 15 cm 3, S = 1 mm 2

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 22 Gennaio 2012

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 22 Gennaio 2012 DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL Gennaio 01 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un processo per la realizzazione di transistori n-mos è caratterizzato da: N A = 10 16 cm 3, µ n canale = 800 cm /Vs, µ n bulk = 1000 cm /Vs,

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 9 Gennaio 2012

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 9 Gennaio 2012 DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 9 Gennaio 01 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore n-mos (N A = 10 16 cm 3, µ n = 800 cm /Vs nel canale, W = L = 5 µm, t ox = 50 nm), realizzato con un processo polysilicon gate,

Dettagli

Anche questo transistor è unipolare. Il suo nome è un acronimo per Metal Oxide

Anche questo transistor è unipolare. Il suo nome è un acronimo per Metal Oxide Il transistor MOSFET MOSFET enhancement mode Anche questo transistor è unipolare. Il suo nome è un acronimo per Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor. La struttura di principio del dispositivo

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 25 Luglio 2018

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 25 Luglio 2018 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 25 Luglio 2018 ESERCIZIO 1 Nel circuito in gura, il diodo p + n a destra è a base lunga con N D = 10 16 cm 3, S = 10 cm 2. Il diodo p + n a sinistra ha N D

Dettagli

I dispositivi elettronici. Dispense del corso ELETTRONICA L

I dispositivi elettronici. Dispense del corso ELETTRONICA L I dispositivi elettronici Dispense del corso ELETTRONICA L Sommario I semiconduttori La giunzione pn Il transistor MOS Cenni sul principio di funzionamento Modellizzazione Fenomeni reattivi parassiti Top-down

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 16 Settembre 2014

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 16 Settembre 2014 DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 16 Settembre 2014 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore n + pn (N A = N D = 10 16 cm 3, µ n = 0.1 m 2 /Vs, µ p = 0.04 m 2 /Vs, τ n = τ p = 10 6 s, = 3 µm, S=1 mm 2 ), è polarizzato

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 15 Settembre 2017

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 15 Settembre 2017 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 15 Settembre 2017 ESERCIZIO 1 Una giunzione pn, con entrambe le basi lunghe, è caratterizzata da N A = N D = 5 10 15 cm 3, µ n = 0.11 m 2 /Vs, µ p = 0.04 m

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 23 Giugno 2012

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 23 Giugno 2012 DE e DTE: PROA SCRITTA DEL 23 Giugno 2012 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore bipolare npn (N D emettitore = 10 16 cm 3, N A base = 10 16 cm 3, N D collettore = 10 15 cm 3, τ n = τ p = 10 6 s, µ n = 1000

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 30 Giugno 2016

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 30 Giugno 2016 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 30 Giugno 2016 ESERCIZIO 1 Considerare delle giunzioni p + n, con N D = 10 15 cm 3, µ n = 0.12 m 2 /Vs, S=1 mm 2. Il campo elettrico di break- down a valanga

Dettagli

Transistori MOS. Ing. Ivan Blunno 21 aprile 2005

Transistori MOS. Ing. Ivan Blunno 21 aprile 2005 Transistori MOS Ing. Ivan Blunno 1 aprile 005 1 Introduzione In questa dispensa verranno presentati i transistor MOS (Metal Oxide Semiconductor) di tipo N e P dal punto di vista del loro funzionamento

Dettagli

Amplificatori elementari con carico attivo MOSFET E connesso a diodo

Amplificatori elementari con carico attivo MOSFET E connesso a diodo Amplificatori elementari con carico attio MOSFET E connesso a diodo i ( ) = K g = µ C W L I V t m n OX G. Martines MOSFET DE connesso a diodo GS = 0, il transistore può funzionare in regione di triodo

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 3 Febbraio 2018

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 3 Febbraio 2018 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 3 Febbraio 2018 ESERCIZIO 1 In gura è rappresentato un pezzo di silicio, drogato da una parte n + (N D = 10 19 cm 3, µ n+ = 0.015 m 3 ) e dall'altra n (N D

Dettagli

ESERCIZIO 3 Nel circuito in gura, il transistore bipolare è un n + pn +, con N A = cm 3, τ n = 10 6 s, µ n = 0.09 m 2 /Vs, S = 1 mm 2.

ESERCIZIO 3 Nel circuito in gura, il transistore bipolare è un n + pn +, con N A = cm 3, τ n = 10 6 s, µ n = 0.09 m 2 /Vs, S = 1 mm 2. PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 16 Gennaio 2019 ESERCIZIO 1 Un transistore bipolare n + pn (N Abase = 10 16 cm 3, N Dcollettore = 2 10 16 cm 3, τ n = 10 6 s, µ n = 0.1 m 2 /Vs, S=1 mm 2 )

Dettagli

Porte logiche in tecnologia CMOS

Porte logiche in tecnologia CMOS Porte logiche in tecnologia CMOS Transistore MOS = sovrapposizione di strati di materiale con proprietà elettriche diverse tra loro (conduttore, isolante, semiconduttore) organizzati in strutture particolari.

Dettagli

Esercitazione del 27 Maggio 2009

Esercitazione del 27 Maggio 2009 Esercitazione del 7 Maggio 009 Es. 1 - pmos in configurazione drain comune 1) Con riferimento al circuito in Fig. 1, determinare le regioni di funzionamento del transistore Mp nel piano V out (V in ).

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 22 Novembre 2018

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 22 Novembre 2018 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 22 Novembre 2018 ESERCIZIO 1 Nel circuito in gura il diodo A è una giunzione Schottky a base corta, substrato n = N D = 10 15 cm 3 e W n = 5 µm. Il metallo

Dettagli

Elettronica II La giunzione p-n: calcolo della relazione tensione-corrente p. 2

Elettronica II La giunzione p-n: calcolo della relazione tensione-corrente p. 2 Elettronica II La giunzione p-n: calcolo della relazione tensione-corrente Valentino Liberali Dipartimento di Tecnologie dell Informazione Università di Milano, 26013 Crema e-mail: liberali@dti.unimi.it

Dettagli

Capitolo IV. Transistori ad effetto di campo

Capitolo IV. Transistori ad effetto di campo Capitolo IV Transistori ad effetto di campo In questo capitolo si tratteranno i transistori ad effetto di campo (FET). Come nel caso dei BJT la tensione tra due terminali del FET controlla la corrente

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 12 Giugno 2017

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 12 Giugno 2017 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 12 Giugno 2017 ESERCIZIO 1 Una giunzione p + n è caratterizzata da N D = 5 10 15 cm 3, µ p = 0.04 m 2 /Vs, τ p = 10 6 s, S = 1 mm 2. Questa giunzione è polarizzata

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 29 Giugno 2015

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 29 Giugno 2015 DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 29 Giugno 2015 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore (emettitore n + ) è caratterizzato da base = 5 10 15 cm 3, lunghezza metallurgica W met = 4 µm, τ n = 1 µs, µ n = 0.1 m 2

Dettagli

Stadi Amplificatori di Base

Stadi Amplificatori di Base Stadi Amplificatori di Base Biagio Provinzano Marzo 2005 Ipotesi di lavoro: i) Transistor npn acceso ed in zona attiva v BE 1 0.7V e v C >v B ii) Consideriamo un classico schema di polarizzazione con quattro

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 16 Luglio 2012

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 16 Luglio 2012 000000000 111111111 000000000 111111111 DE e DTE: PROA SCRITTA DEL 16 Luglio 01 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Nella figura è mostrato lo schema di massima di un transistore n-mos (condensatore MOS ideale), con

Dettagli

Elettronica I Funzionamento del transistore MOS

Elettronica I Funzionamento del transistore MOS Elettroica I Fuzioameto del trasistore MOS Valetio Liberali Dipartimeto di Tecologie dell Iformazioe Uiversità di Milao, 26013 Crema e-mail: liberali@dti.uimi.it http://www.dti.uimi.it/ liberali Elettroica

Dettagli

Ricavo della formula

Ricavo della formula Dispositivi e Circuiti Elettronici Ricavo della formula E F i E F = k B T ln N A n i Si consideri la relazione di Shockey: ( ) EFi E F p = n i exp k B T Si osservi anche che per x = il semiconduttore è

Dettagli

Dispositivi e Tecnologie Elettroniche. Il transistore MOS

Dispositivi e Tecnologie Elettroniche. Il transistore MOS Dispositivi e Tecnologie Elettroniche Il transistore MOS Il transistore MOS La struttura MOS a due terminali vista può venire utilizzata per costruire un condensatore integrato È la struttura base del

Dettagli

Esercizio : calcolo della conducibilita in un conduttore metallico.

Esercizio : calcolo della conducibilita in un conduttore metallico. Esercizio : calcolo della conducibilita in un conduttore metallico. Si consideri una striscia di metallo in un circuito integrato, con dimensioni:lunghezza L =.8 [mm], Area della sezione A = 4 [µm²] (micrometri

Dettagli

Esercitazione III Simulazione PSpice dell invertitore CMOS

Esercitazione III Simulazione PSpice dell invertitore CMOS Esercitazione III Simulazione PSpice dell invertitore CMOS Come è noto, nei circuiti CMOS vengono utilizzati sia dispositivi a canale N sia dispositivi a canale P. La principale differenza fra i due tipi

Dettagli

Elettronica Funzionamento del transistore MOS

Elettronica Funzionamento del transistore MOS Elettroica Fuzioameto del trasistore MOS Valetio Liberali Dipartimeto di Fisica Uiversità degli Studi di Milao valetio.liberali@uimi.it Elettroica Fuzioameto del trasistore MOS 13 maggio 2015 Valetio Liberali

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 19 Settembre 2018

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 19 Settembre 2018 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 19 Settembre 2018 ESERCIZIO 1 Nel circuito in gura (V CC = 8 V, R = 1 kω), il transistore npn ha N Demettitore = 10 17 cm 3 (emettitore lungo), N Abase = 10

Dettagli

Circuito a costanti concentrate

Circuito a costanti concentrate Circuito a costanti concentrate periodo Il contributo dei cavetti di collegamento a resistenza, capacita' ed induttanza del circuito e' trascurabile: resistenza, capacita' (ed induttanza) sono solo quelle

Dettagli

Inverter CMOS. Inverter CMOS

Inverter CMOS. Inverter CMOS Inverter CMOS Lucidi del Corso di Elettronica Digitale Modulo 3 Università di Cagliari Dipartimento di Ingegneria Elettrica ed Elettronica Laboratorio di Elettronica (EOLAB) Inverter CMOS PMOS V Tensione

Dettagli

Elettronica per l'informatica 10/10/2005

Elettronica per l'informatica 10/10/2005 Cosa Cosa c è c è nell unità D Unità : Elettronica digitale Elettronica per l informatica.1 Interconnessioni.2 Integrità di segnale.3 Diafonia e ground bounce 1 2 Contenuto dell unità D Prerequisiti per

Dettagli

MOSFET o semplicemente MOS

MOSFET o semplicemente MOS MOSFET o semplicemente MOS Sono dei transistor e come tali si possono usare come dispositivi amplificatori e come interruttori (switch), proprio come i BJT. Rispetto ai BJT hanno però i seguenti vantaggi:

Dettagli

SIMULAZIONE CIRCUITALE CON LTSPICE. Ing. Marco Grossi Università di Bologna, DEI e- mail :

SIMULAZIONE CIRCUITALE CON LTSPICE. Ing. Marco Grossi Università di Bologna, DEI e- mail : SIMULAZIONE CIRCUITALE CON LTSPICE Ing. Marco Grossi Università di Bologna, DEI e- mail : marco.grossi8@unibo.it Simulazione di circuiti elettronici con SPICE SPICE (Simulation Program with Integrated

Dettagli

Coppia differenziale MOS con carico passivo

Coppia differenziale MOS con carico passivo Coppia differenziale MOS con carico passivo tensione differenziale v ID =v G1 v G2 e di modo comune v CM = v G1+v G2 2 G. Martines 1 Coppia differenziale MOS con carico passivo Funzionamento con segnale

Dettagli

Esercizio 1.3 Il percorso con maggiore tempo di propagazione è quello del segnale A

Esercizio 1.3 Il percorso con maggiore tempo di propagazione è quello del segnale A Copyright 006 he McGraw-Hill Companies srl SOLUZIONI DI ESERCIZI - Elettronica Digitale III ed. Capitolo Esercizio. V OH 5 V, V OL 0.5 V; NM H V OH - V IH V; NM L V IH - V IL.5 V. Esercizio.3 Il percorso

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 14 Febbraio 2015

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 14 Febbraio 2015 DE e DTE: PROVA SCRTTA DEL 14 Febbraio 2015 ESERCZO 1 (DE,DTE) due diodi in gura sono uno a base lunga (diodo A: p + n, N D = 5 10 15 cm 3, τ n = τ p = 1 µs, µ p = 0.04 m 2 /Vs, S = 1mm 2 ) e uno a base

Dettagli

Tel: Laboratorio Micro (Ex Aula 3.2) Ricevimento: Giovedì

Tel: Laboratorio Micro (Ex Aula 3.2) Ricevimento: Giovedì DEIS University of Bologna Italy Progetto di circuiti analogici L-A Luca De Marchi Email: l.demarchi@unibo.it Tel: 051 20 93777 Laboratorio Micro (Ex Aula 3.2) Ricevimento: Giovedì 15.00-17.00 DEIS University

Dettagli

CONDENSATORE ELETTRICO

CONDENSATORE ELETTRICO CONDENSATORE ELETTRICO Il condensatore è un dispositivo a due terminali, nella sua forma più semplice (condensatore piano), è costituito da due piastre conduttrici (armature) piane e parallele, provviste

Dettagli

Soluzione di circuiti RC ed RL del primo ordine

Soluzione di circuiti RC ed RL del primo ordine Principi di ingegneria elettrica Lezione 11 a parte 2 Soluzione di circuiti RC ed RL del primo ordine Metodo sistematico Costante di tempo Rappresentazione del transitorio Metodo sistematico per ricavare

Dettagli

Amplificatori operazionali

Amplificatori operazionali Amplificatori operazionali Parte 3 www.die.ing.unibo.it/pers/mastri/didattica.htm (versione del 6--) Integratore Dato che l ingresso invertente è virtualmente a massa si ha vi ( t) ir ( t) R Inoltre i

Dettagli

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 16 Febbraio 2016

DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 16 Febbraio 2016 DE e DTE: PROVA SCRITTA DEL 16 Febbraio 2016 ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Un transistore bipolare npn (N Demettitore = N Abase = 10 16 cm 3, N Dcollettore = 5 10 15 cm 3, µ n = 0.1 m 2 /Vs, τ n = τ p = 10 6, µ

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 15 Febbraio ESERCIZIO 1 Una giunzione pn è caratterizzata da N A = cm 3, N D = cm 3,

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 15 Febbraio ESERCIZIO 1 Una giunzione pn è caratterizzata da N A = cm 3, N D = cm 3, PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 15 Febbraio 2017 ESERCIZIO 1 Una giunzione pn è caratterizzata da N A = 5 10 15 cm 3, N D = 10 16 cm 3, µ n = 0.10 m 2 /Vs, µ p = 0.04 m 2 /Vs, τ n = τ p =

Dettagli

Grandezze caratteristiche della trasmissione del calore

Grandezze caratteristiche della trasmissione del calore Grandezze caratteristiche della trasmissione del calore Temperatura Grandezza fondamentale che caratterizza i fenomeni termici. Indica lo stato energetico nel quale si trova il corpo materiale (gas, liquido,

Dettagli

Inver&tore CMOS. V DD > 0 l altra alimentazione è a massa (0 V) 0 V O V DD

Inver&tore CMOS. V DD > 0 l altra alimentazione è a massa (0 V) 0 V O V DD Inver&tore CMOS S p > 0 l altra alimentazione è a massa (0 V) - = V GSp G n = G p VDSp = - D n = D p 0 Il potenziale più basso nel circuito coincide con la massa il Source del nmos coincide con la massa

Dettagli

Teoria dei Segnali Un esempio di processo stocastico: il rumore termico

Teoria dei Segnali Un esempio di processo stocastico: il rumore termico Teoria dei Segnali Un esempio di processo stocastico: il rumore termico Valentino Liberali Dipartimento di Fisica Università degli Studi di Milano valentino.liberali@unimi.it Teoria dei Segnali Il rumore

Dettagli

ESERCIZIO 1 Il transistore in gura è un n + pn +, con W = 3 µm, N Abase = cm 3,

ESERCIZIO 1 Il transistore in gura è un n + pn +, con W = 3 µm, N Abase = cm 3, PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 8 Settembre 2016 ESERCIZIO 1 Il transistore in gura è un n + pn +, con W = 3 µm, N Abase = 10 16 cm 3, µ n = 0.1 m 2 /V s, τ n = 10 6 s, S = 1 mm 2. Trascurare

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 24 Luglio 2019

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 24 Luglio 2019 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 24 Luglio 2019 ESERCIZIO 1 Un transistore npn a base corta è caratterizzato da: N Dem = 10 15 cm 3 (emettitore lungo), N Abase = 10 16 cm 3, N Dcoll = 10 15

Dettagli

I transistor mosfet e jfet

I transistor mosfet e jfet Capitolo 7 I transistor mosfet e jfet 7.1 Struttura del transistor mosfet La sigla mosfet è un acronimo per Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistor (transistor ad effetto di campo di tipo metallo-ossido-semiconduttore).

Dettagli

Dispositivi elettronici. Transistor (MOSFET)

Dispositivi elettronici. Transistor (MOSFET) ispositivi elettronici Metal-Oxide- emiconductor Field Effect Transistor (MOFET) ommario Come è fatto un MOFET a canale n Principi di funzionamento Canale di inversione Calcolo di I vs V Curve I vs V e

Dettagli

Unità D: Elettronica digitale. Cosa Cosa c è c è nell unità D

Unità D: Elettronica digitale. Cosa Cosa c è c è nell unità D Elettronica per telecomunicazioni 1 Cosa Cosa c è c è nell unità D Unità D: Elettronica digitale D.1 Interconnessioni D.2 Integrità di segnale D.3 Diafonia e ground bounce D.4 Dispositivi programmabili

Dettagli

Introduzione e modellistica dei sistemi

Introduzione e modellistica dei sistemi Introduzione e modellistica dei sistemi Modellistica dei sistemi dinamici elettrici Elementi fondamentali Rappresentazione in variabili di stato Esempi di rappresentazione in variabili di stato Modellistica

Dettagli

MOS Field-Effect Transistors (MOSFETs)

MOS Field-Effect Transistors (MOSFETs) MOS Field-Effect Transistors (MOSFETs) A. Ranieri Laboratorio di Elettronica A.A. 2009-2010 1 Struttura fisica di un transistore NMOS ad accrescimento. Tipicamente L = 0.1 a 3 m, W = 0.2 a 100 m e lo spessore

Dettagli

Elettronica I Introduzione ai semiconduttori

Elettronica I Introduzione ai semiconduttori Elettronica I Introduzione ai semiconduttori Valentino Liberali Dipartimento di Tecnologie dell Informazione Università di Milano, 26013 Crema e-mail: liberali@dti.unimi.it http://www.dti.unimi.it/ liberali

Dettagli

ESERCIZIO 1 In gura è rappresentata una giunzione p + n (S=1 mm 2, µ n = 0.1 m 2 /Vs,

ESERCIZIO 1 In gura è rappresentata una giunzione p + n (S=1 mm 2, µ n = 0.1 m 2 /Vs, PROVA SCRTTA di DSPOSTV ELETTRONC del 22 Febbraio 2019 ESERCZO 1 n gura è rappresentata una giunzione p + n (S=1 mm 2, µ n = 0.1 m 2 /Vs, µ p = 0.04 m 2 /Vs, τ p = τ n = 10 6 s). La parte n è drogata N

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 8 Gennaio 2018

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 8 Gennaio 2018 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 8 Gennaio 2018 ESERCIZIO 1 Un transistore n + pn, con N ABase = N DCollettore = 5 10 15 cm 3, µ n = 0.11 m 2 /Vs, τ n = 10 6 s, S = 1 mm 2, è polarizzato con

Dettagli

MOS a canale N a Svuotamento La tensione di soglia V T di un MOS può variare fra (1-5) volt, il valore dipende da:

MOS a canale N a Svuotamento La tensione di soglia V T di un MOS può variare fra (1-5) volt, il valore dipende da: MOS a canale N a Svuotamento La tensione di soglia V T di un MOS può variare fra (1-5) volt, il valore dipende da: - cariche positive presenti nell'ossido - presenza di stati superficiali nell'interfaccia

Dettagli

Fondamenti di Elettronica, Sez.3

Fondamenti di Elettronica, Sez.3 Fondamenti di Elettronica, Sez.3 Alessandra Flammini alessandra.flammini@unibs.it Ufficio 24 Dip. Ingegneria dell Informazione 030-3715627 Lunedì 16:30-18:30 Fondamenti di elettronica, A. Flammini, AA2018-2019

Dettagli

TRANSISTOR DI POTENZA

TRANSISTOR DI POTENZA TRANSISTOR DI POTENZA I transistor di potenza sono principalmente utilizzati nel controllo dei motori, in campo automobilistico, negli alimentatori, negli stadi finali degli amplificatori (audio, RF, ).

Dettagli

Esperimentazioni di Fisica 3. Appunti sugli. Amplificatori Differenziali. M De Vincenzi

Esperimentazioni di Fisica 3. Appunti sugli. Amplificatori Differenziali. M De Vincenzi Esperimentazioni di Fisica 3 Appunti sugli. Amplificatori Differenziali M De Vincenzi 1 Introduzione L amplificatore differenziale è un componente elettronico che (idealmente) amplifica la differenza di

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 6 Febbraio 2019

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 6 Febbraio 2019 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 6 Febbraio 2019 ESERCIZIO 1 In gura sono rappresentati due diodi identici: N A = 10 16 cm 3, N D = 10 15 cm 3, µ n = 0.1 m 2 /Vs, µ p = 0.03 m 2 /Vs, τ n =

Dettagli

Esercitazione del 21 Maggio 2008

Esercitazione del 21 Maggio 2008 Esercitazione del 1 Maggio 008 Es. 1 - pmos in configurazione drain comune 1) Con riferimento al circuito in Fig. 1, determinare le regioni di funzionamento del transistore Mp nel piano V out (V in ).

Dettagli

Elettronica I Risposta dei circuiti RC e RL nel dominio del tempo; derivatore e integratore p. 2

Elettronica I Risposta dei circuiti RC e RL nel dominio del tempo; derivatore e integratore p. 2 Elettronica I isposta dei circuiti e L nel dominio del tempo; derivatore e integratore Valentino Liberali Dipartimento di Tecnologie dell Informazione Università di Milano, 613 rema e-mail: liberali@i.unimi.it

Dettagli

I transistor mosfet e jfet

I transistor mosfet e jfet Capitolo 7 I transistor mosfet e jfet 7.1 Struttura del transistor mosfet La sigla mosfet è un acronimo per Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistor (transistor ad effetto di campo di tipo metallo-ossido-semiconduttore).

Dettagli

Elettronica I Risposta dei circuiti RC e RL nel dominio del tempo; derivatore e integratore p. 2

Elettronica I Risposta dei circuiti RC e RL nel dominio del tempo; derivatore e integratore p. 2 Elettronica I isposta dei circuiti C e L nel dominio del tempo; derivatore e integratore Valentino Liberali Dipartimento di Tecnologie dell Informazione Università di Milano, 26013 Crema e-mail: liberali@i.unimi.it

Dettagli

1) Il lato n è lungo (1 mm), mentre quello p è sicuramente corto (3 µm). Calcoliamo la regione di svuotamento per V = 0.5 V: = V.

1) Il lato n è lungo (1 mm), mentre quello p è sicuramente corto (3 µm). Calcoliamo la regione di svuotamento per V = 0.5 V: = V. ESERCIZIO 1 (DE,DTE) Una giunzione pn è caratterizzata da (W p e W n distanze tra il piano della giunzione e rispettivamente contatto p ed n): S = 1 mm, N D = 10 16 cm 3, W n = 1 mm, N A = 10 15 cm 3,

Dettagli

COMPITO DI ELETTRONICA I ELETTRONICI INFORMATICI ELETTRICI

COMPITO DI ELETTRONICA I ELETTRONICI INFORMATICI ELETTRICI 18-01-2003 Q3 Q4 v out Q2 M1 v s i s Dz =3 V V Z =2 V Diodo zener ideale =1 kω =1.5 kω =250 Ω =1 kω β=100 K n =µ n C ox /2=50 µa/v 2 W/L=16/0.8 V Tn = 1 V C π = C gs =10 pf C µ = C gd =1 pf C1=C2=C3=1

Dettagli

Esonero del Corso di Elettronica I 23 aprile 2001

Esonero del Corso di Elettronica I 23 aprile 2001 Esonero del Corso di Elettronica I 23 aprile 2001 1) Nell amplificatore MO di figura k=5.10-4 A/V 2, V T = 2 V, = 10K Ω, =10V, =3V. eterminare il guadagno di tensione per un segnale applicato tra gate

Dettagli

Circuiti Integrati Analogici

Circuiti Integrati Analogici Circuiti Integrati Analogici prof.irace a.a.007/008 Circuiti Integrati Analogici Prof. Irace a.a.007/008 1 - Il MOSFET come interruttore In figura è riportato un transistore MOS a canale n Sappiamo che

Dettagli

Cavo Carbonio. Sergio Rubio Carles Paul Albert Monte

Cavo Carbonio. Sergio Rubio Carles Paul Albert Monte Cavo o Sergio Rubio Carles Paul Albert Monte o, Rame e Manganina PROPRIETÀ FISICHE PROPRIETÀ DEL CARBONIO Proprietà fisiche del o o Coefficiente di Temperatura α o -0,0005 ºC -1 o Densità D o 2260 kg/m

Dettagli

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 10 Giugno 2016

PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 10 Giugno 2016 PROVA SCRITTA di DISPOSITIVI ELETTRONICI del 0 Giugno 206 ESERCIZIO Il transistore bipolare npn nelle gure ha N Demettitore = N Dcollettore = 0 7 cm 3, N Abase = 0 6 cm 3, µ n = 0. m 2 /Vs, τ n = τ p =

Dettagli

Progettazione Analogica e Blocchi Base

Progettazione Analogica e Blocchi Base Progettazione Analogica e Blocchi Base Lucidi del Corso di Circuiti Integrati Università di Cagliari Dipartimento di Ingegneria Elettrica ed Elettronica Laboratorio di Elettronica (EOLAB) Blocchi base

Dettagli

ESERCIZIO 1 Il transistore bipolare in gura è caratterizzato da N Abase = cm 3,

ESERCIZIO 1 Il transistore bipolare in gura è caratterizzato da N Abase = cm 3, POVA SCITTA di DISPOSITIVI ELETTONICI del 17 Luglio 017 ESECIZIO 1 Il transistore bipolare in gura è caratterizzato da base = 5 10 15 cm 3, µ n = 0.11 m /Vs, µ p = 0.04 m /Vs, = τ p = 10 6 s, = 3 µm, S

Dettagli

Laboratorio di Elettronica Dispositivi elettronici e circuiti Linee di trasmissione Proprieta' e fenomenologia dei semiconduttori. Dispositivi a semiconduttore: * diodo a giunzione * transistor bjt * transistor

Dettagli

1 = 2 1 = 2 W L W L MOSFET ENHANCEMENT A CANALE P D I D > 0 B V SD > 0 D I D < 0 B V DS < 0 V SG > 0 S V GS < 0. Regione di interdizione

1 = 2 1 = 2 W L W L MOSFET ENHANCEMENT A CANALE P D I D > 0 B V SD > 0 D I D < 0 B V DS < 0 V SG > 0 S V GS < 0. Regione di interdizione MOFE ENHANCEMEN A CANALE P MOFE a canale p hanno una struttura analoga a quelli a canale n, con la differenza che i tipi di semiconduttore sono scambiati: ora source e drain sono realizzati con semiconduttori

Dettagli

Dispositivi elettronici. Effect

Dispositivi elettronici. Effect ispositivi elettronici Metal-Oxide-emiconductoremiconductor Field Effect Transistor (MOFET) ommario Come è fatto un MOFET a canale n Principi di funzionamento Canale di inversione Calcolo di I vs V Curve

Dettagli

Page 1. ElapC2 29/10/ DDC 1 ELETTRONICA APPLICATA E MISURE. I conduttori formano anche induttanze

Page 1. ElapC2 29/10/ DDC 1 ELETTRONICA APPLICATA E MISURE. I conduttori formano anche induttanze Ingegneria dell Informazione Lezione C2: Linee di Trasmissione ELETTRONICA APPLICATA E MISURE Dante DEL CORSO AA 2012-13 C2 MODELLI A LINEA» Linee di trasmissione» Propagazione e riflessioni» Valutazione

Dettagli